Direkte ionbeamôfsetting is in soarte fan ionbeam-assistearre ôfsetting. De direkte ionbeamôfsetting is in net-massa-skieden ionbeamôfsetting. Dizze technyk waard foar it earst brûkt om diamant-eftige koalstoffilms te produsearjen yn 1971, basearre op it prinsipe dat it haaddiel fan 'e katode en anode fan 'e ionboarne fan koalstof makke is.
It gefoelige gas wurdt yn 'e ûntladingskeamer laat, en in ekstern magnetysk fjild wurdt tafoege om in plasma-ûntlading te feroarsaakjen ûnder lege drukomstannichheden, wêrby't ôfhinklik is fan it sputtereffekt fan 'e ioanen op 'e elektroden om koalstofioanen te produsearjen. Koalstofioanen en tichte ioanen yn it plasma waarden tagelyk yn 'e ôfsettingskeamer ynducearre, en se waarden fersneld om op it substraat ynjektearre te wurden fanwegen de negative biasdruk op it substraat.
De testresultaten litte sjen dat de koalstofioanen mei de enerzjy fan 50~100eV bykeamertemperatuer, yn Si, NaCI, KCI, Ni en oare substraten by de tarieding fan transparante diamant-eftige koalstoffilm, wjerstân sa heech as 10Q-cm, brekingsyndeks fan sawat 2, ûnoplosber yn anorganyske en organyske soeren, hawwe in heul hege hurdens.
—— Dit artikel is útjûn trochfabrikant fan fakuümcoatingmasinesGuangdong Zhenhua
Pleatsingstiid: 31 augustus 2023