Los equipos de recubrimiento al vacío suelen estar compuestos por varios componentes clave, cada uno con su función específica, que trabajan en conjunto para lograr una deposición de película eficiente y uniforme. A continuación, se describe los componentes principales y sus funciones:
Componentes principales
Cámara de vacío:
Función: Proporciona un entorno de baja presión o alto vacío para evitar que el material de recubrimiento reaccione con impurezas en el aire durante la evaporación o la pulverización catódica, lo que garantiza la pureza y la calidad de la película.
Estructura: Generalmente hecha de acero inoxidable o aluminio de alta resistencia, el diseño interno tiene en cuenta la distribución del flujo de aire y la facilidad de colocación del sustrato.
Sistema de bomba de vacío:
Función: Se utiliza para bombear el gas dentro de la cámara de vacío para lograr el nivel de vacío requerido.
Tipos: Incluye bombas mecánicas (por ejemplo, bombas de paletas rotativas), bombas turbomoleculares, bombas de difusión y bombas de iones.
Fuente de evaporación o fuente de pulverización catódica:
Función: calienta y evapora el material de recubrimiento para formar vapor o plasma en el vacío.
Tipos: incluye fuente de calentamiento por resistencia, fuente de evaporación por haz de electrones, fuente de pulverización catódica por magnetrón y fuente de evaporación láser, etc.
Soporte de sustrato y mecanismo giratorio:
Función: Sujeta el sustrato y asegura la deposición uniforme del material de recubrimiento sobre la superficie del sustrato mediante rotación u oscilación.
CONSTRUCCIÓN: Generalmente incluye abrazaderas ajustables y mecanismos giratorios/oscilantes para adaptarse a sustratos de diferentes formas y tamaños.
Sistema de alimentación y control:
Función: Proporciona energía a la fuente de evaporación, a la fuente de pulverización catódica y a otros equipos, y controla los parámetros del proceso de recubrimiento general, como la temperatura, el vacío y el tiempo.
Componentes: Incluye fuentes de alimentación, paneles de control, sistemas de control computarizados y sensores de monitoreo.
Sistema de suministro de gas (para equipos de recubrimiento por pulverización catódica):
Función: Suministra gases inertes (por ejemplo, argón) o gases reactivos (por ejemplo, oxígeno, nitrógeno) para mantener un plasma o participar en una reacción química para generar una película delgada específica.
Componentes: Incluye cilindros de gas, controladores de flujo y tuberías de suministro de gas.
Sistema de enfriamiento:
Función: enfría la fuente de evaporación, la fuente de pulverización catódica y la cámara de vacío para evitar el sobrecalentamiento.
Tipos: incluyen sistemas de enfriamiento por agua y sistemas de enfriamiento por aire, etc.
Sistema de monitoreo y detección:
Función: Monitoreo en tiempo real de parámetros clave en el proceso de recubrimiento, como el espesor de la película, la tasa de deposición, el vacío y la temperatura, para garantizar la calidad del recubrimiento.
Tipos: incluye microbalanza de cristal de cuarzo, monitor de espesor óptico y analizador de gas residual, etc.
Dispositivos de protección:
Función: Garantiza la seguridad de los operadores y equipos frente a riesgos provocados por altas temperaturas, altos voltajes o entornos de vacío.
Componentes: Incluye protectores, botones de parada de emergencia y enclavamientos de seguridad, etc.
Resumir.
Los equipos de recubrimiento al vacío permiten depositar películas delgadas de alta calidad mediante la sinergia de estos componentes. Estas máquinas desempeñan un papel fundamental en la preparación de películas delgadas ópticas, electrónicas, decorativas y funcionales.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Hora de publicación: 23 de julio de 2024