Die Vakuumplasma-Reinigungsanlage verfügt über eine integrierte Struktur, ist mit einem HF-Ionen-Reinigungssystem ausgestattet und ermöglicht eine vollautomatische Steuerung sowie eine bequeme Bedienung und Wartung.
Der HF-Hochfrequenzgenerator kann hochdichtes Plasma erzeugen, die Werkstückoberfläche aktivieren, ätzen und veraschen, Staub und Fett auf der Produktoberfläche wirksam entfernen, Oberflächenspannungen lösen und verschiedene Modifikationen auf der Werkstückoberfläche erzielen.
Es ist auf Gummi, Glas, Keramik, Metall und andere Produkte anwendbar und wird in der Mikroelektronik, bei LCDs, LEDs, LCMs, PCB-Leiterplatten, Halbleiterverpackungen, medizinischen Geräten, biowissenschaftlichen Experimenten und anderen Bereichen eingesetzt.