O equipamento de limpeza a plasma a vácuo adota uma estrutura integrada, equipado com sistema de limpeza iônica por radiofrequência, controle totalmente automático, operação e manutenção convenientes.
O gerador de radiofrequência (RF) de alta frequência pode gerar plasma de alta densidade, ativar, gravar e remover resíduos da superfície da peça, eliminando eficazmente poeira e gordura, aliviando a tensão superficial e permitindo diversas modificações na superfície da peça.
É aplicável a produtos de borracha, vidro, cerâmica, metal e outros, e é utilizado em microeletrônica, LCD, LED, LCM, placas de circuito impresso (PCB), embalagens de semicondutores, dispositivos médicos, experimentos em ciências da vida e outras áreas.