DESCRIPCIÓN DEL PRODUCTO
Los equipos de limpieza por plasma al vacío adoptan una estructura integrada, están equipados con un sistema de limpieza por iones de radiofrecuencia, control totalmente automático y ofrecen un funcionamiento y mantenimiento sencillos.
El generador de radiofrecuencia de alta frecuencia puede generar plasma de alta densidad, activar, grabar y carbonizar la superficie de la pieza de trabajo, eliminar eficazmente el polvo y la grasa de la superficie del producto, liberar la tensión superficial y obtener diversas modificaciones en la superficie de la pieza de trabajo.
Es aplicable a productos de caucho, vidrio, cerámica, metal y otros, y se utiliza en microelectrónica, LCD, LED, LCM, placas de circuito impreso (PCB), encapsulado de semiconductores, dispositivos médicos, experimentos de ciencias biológicas y otros campos.
Modelos opcionales
| VLY1000 | VLY0810 |
| φ1000*H1000(mm)
| φ800*H1000(mm)
|
CARACTERÍSTICAS DEL PRODUCTO
DISPOSITIVOS RELATIVOS
Haga clic en Ver
Equipo experimental de recubrimiento rollo a rollo
El equipo experimental de recubrimiento rollo a rollo adopta la tecnología de recubrimiento que combina la pulverización catódica por magnetrón y el arco catódico, que cumple con los requisitos de ambos componentes de la película...
Recubrimiento por evaporación de haz de electrones pequeño GX600 e...
El equipo adopta una estructura de puerta frontal vertical y una disposición en clúster. Puede equiparse con fuentes de evaporación para metales y diversos materiales orgánicos, y puede evaporar...
Equipos de recubrimiento por evaporación con control magnético
El equipo integra la tecnología de pulverización catódica por magnetrón y evaporación por resistencia, y proporciona una solución para recubrir una variedad de sustratos diferentes. El experimento...
Sistemas experimentales de pulverización catódica por magnetrón PVD
El equipo integra la tecnología de pulverización catódica por magnetrón y recubrimiento iónico, y proporciona una solución para mejorar la consistencia del color, la tasa de deposición y la estabilidad del compuesto...