POPIS VÝROBKU
Zařízení pro vakuové plazmové čištění využívá integrovanou strukturu, vybavenou systémem čištění RF iontů, plně automatickým ovládáním, pohodlnou obsluhou a údržbou.
Vysokofrekvenční generátor RF může generovat plazma s vysokou hustotou, aktivovat, leptat a zpopelňovat povrch obrobku, účinně odstraňovat prach a mastnotu na povrchu výrobku, uvolňovat povrchové napětí a získávat různé úpravy na povrchu obrobku.
Je použitelný pro pryž, sklo, keramiku, kov a další výrobky a používá se pro mikroelektroniku, LCD, LED, LCM, desky plošných spojů, obaly polovodičů, lékařská zařízení, experimenty v oblasti biologických věd a další oblasti.
Volitelné modely
| VLY1000 | VLY0810 |
| φ1000*H1000(mm)
| φ800*H1000(mm)
|
RELATIVNÍ ZAŘÍZENÍ
Klikněte na Zobrazit
Experimentální zařízení pro nanášení válečků
Experimentální zařízení pro nanášení na válec využívá technologii potahování kombinující magnetronové naprašování a katodový oblouk, který splňuje požadavky obou filmových ko...
GX600 malý elektronový paprsek odpařovací povlak e...
Zařízení využívá vertikální strukturu předních dveří a uspořádání skupin.Může být vybaven odpařovacími zdroji pro kovy a různé organické materiály a může odpařovat...
Experimentální naprašovací zařízení
Zařízení integruje technologii magnetronového naprašování a iontového povlaku a poskytuje řešení pro zlepšení konzistence barev, rychlosti nanášení a stability...
Integrované magnetické ovládání + odpařovací vrstva...
Zařízení integruje technologii magnetronového naprašování a odporového napařování a poskytuje řešení pro potahování řady různých substrátů.Experiment...