ZCL0608

Die Anlage integriert Magnetron-Sputter- und Widerstandsverdampfungstechnologie und bietet eine Lösung für die Beschichtung einer Vielzahl unterschiedlicher Substrate.
Die experimentellen Beschichtungsanlagen werden hauptsächlich an Universitäten und Forschungseinrichtungen eingesetzt und erfüllen vielfältige experimentelle Anforderungen. Verschiedene Strukturtargets sind für die Anlagen vorgesehen, die flexibel konfiguriert werden können, um den Forschungs- und Entwicklungsbedürfnissen unterschiedlicher Bereiche gerecht zu werden. Zur Auswahl stehen Magnetron-Sputteranlagen, Kathodenbogenanlagen, Elektronenstrahlverdampfungsanlagen, Widerstandsverdampfungsanlagen, CVD- und PECVD-Verfahren, Ionenquellen, Vorspannungssysteme, Heizsysteme, dreidimensionale Vorrichtungen usw. Kunden können die Anlagen entsprechend ihren individuellen Bedürfnissen auswählen.
Die Geräte zeichnen sich durch ein ansprechendes Aussehen, eine kompakte Bauweise, einen geringen Platzbedarf, einen hohen Automatisierungsgrad, eine einfache und flexible Bedienung, eine stabile Leistung und eine einfache Wartung aus.
Das Gerät eignet sich für Kunststoffe, Edelstahl, galvanisierte Metall-/Kunststoffteile, Glas, Keramik und andere Materialien. Es lassen sich einfache Metallschichten wie Titan, Chrom, Silber, Kupfer, Aluminium oder Metallverbindungsschichten wie TiN, TiCN, TiC, TiO₂, TiAlN, CrN, ZrN und CrC herstellen.