진공 플라즈마 세척 장비는 일체형 구조를 채택하고 RF 이온 세척 시스템을 장착했으며, 완전 자동 제어 방식으로 작동 및 유지 보수가 편리합니다.
RF 고주파 발생기는 고밀도 플라즈마를 생성하여 공작물 표면을 활성화, 에칭 및 애싱 처리함으로써 제품 표면의 먼지와 기름기를 효과적으로 제거하고 표면 응력을 완화하며 공작물 표면에 다양한 변화를 줄 수 있습니다.
이 기술은 고무, 유리, 세라믹, 금속 등의 제품에 적용 가능하며, 마이크로 전자, LCD, LED, LCM, PCB 회로 기판, 반도체 패키징, 의료 기기, 생명 과학 실험 등 다양한 분야에 사용됩니다.