Teplotní koeficient odporu kovového filmu se mění s tloušťkou filmu, tenké filmy jsou negativní, tlusté filmy kladné a tlustší filmy jsou podobné, ale ne identické s objemovými materiály. Obecně se teplotní koeficient odporu mění ze záporného na kladný s rostoucí tloušťkou filmu na desítky nanometrů.
Kromě toho rychlost odpařování ovlivňuje také odporový teplotní koeficient kovových filmů. Nízká rychlost odpařování způsobuje, že vrstva filmu je volná, elektrony procházejí její potenciálovou bariérou a schopnost vytvářet vodivost jsou slabé, což je spojeno s oxidací a adsorpcí, takže hodnota odporu je vysoká a odporový teplotní koeficient je malý nebo dokonce záporný. S rostoucí rychlostí odpařování se odporový teplotní koeficient mění z velkého na kladný. To je způsobeno nízkou rychlostí odpařování připraveného filmu v důsledku oxidace polovodičových vlastností a odporovým teplotním koeficientem se mění záporné hodnoty. Filmy připravené s vysokou rychlostí odpařování mívají kovové vlastnosti a kladný odporový teplotní koeficient.
Protože se struktura filmu nevratně mění s teplotou, mění se s teplotou povlakové vrstvy během odpařování také odpor a teplotní koeficient odporu filmu a čím tenčí je film, tím drastičtější je změna. To lze považovat za důsledek chemických změn způsobených opětovným odpařováním a redistribucí částic filmu s přibližnou ostrovní nebo trubkovitou strukturou na substrátu, stejně jako za mřížkový rozptyl, rozptyl nečistot, rozptyl mřížkových defektů a oxidaci.
–Tento článek vydávávýroba vakuových lakovacích strojůr Guangdong Zhenhua
Čas zveřejnění: 18. ledna 2024