Vákuové odparovanie (označované ako odparovací povlak) spočíva v tom, že vo vákuovom prostredí sa filmový materiál zahrieva vo výparníku, čím sa splyňuje, pričom prúd častíc filmu sa odparuje priamo na substrát a nanáša sa na substrát, čím sa vytvára technológia pevného filmu. Vákuové odparovanie je najstaršou a najpoužívanejšou technológiou nanášania pevných filmov vo vývoji technológie PVD. Hoci neskoršie rozvinuté naprašovanie a iónové pokovovanie majú v mnohých ohľadoch lepšie výsledky ako vákuové odparovanie, technológia vákuového odparovania pevných filmov má stále mnoho výhod, ako napríklad relatívne jednoduché zariadenie a proces, nanášanie veľmi čistých filmov, ale aj možnosť prípravy špecifickej štruktúry a vlastností vrstvy filmu atď. Hlavnými nevýhodami tejto metódy je, že nie je ľahké získať filmy s kryštalickou štruktúrou, priľnavosť filmu k substrátu je malá a opakovateľnosť procesu nie je dostatočne dobrá.
V posledných rokoch sa vďaka odparovaniu bombardovaním elektrónmi, vysokofrekvenčnému indukčnému odparovaniu, ako aj laserovému odparovaniu a iným technológiám vo vákuovom odparovaní nanášania všeobecne používa táto technológia, vďaka čomu je táto technológia dokonalejšia a široko sa používa v strojárstve, elektrickom vákuu, rádiu, optike a atómovej energii.
Čas uverejnenia: 17. augusta 2023