Вакуумное испарение покрытия (называемое испарением покрытия) находится в вакуумной среде, испаритель нагревает пленочный материал, чтобы сделать его газификацию, пленочный материал испарения потока частиц непосредственно на подложку и осаждение подложки, формирование технологии твердой пленки. Вакуумное испарение является технологией PVD в развитии самой ранней, более широко используемой технологии городской пленки, хотя позднее развитие распыления и ионного покрытия во многих аспектах, чем превосходство вакуумного испарения, но вакуумное испарение городской пленки технология по-прежнему имеет много преимуществ, таких как оборудование и процесс относительно просты, как осаждение очень чистой пленки, но также может быть подготовлен с определенной структурой и свойствами слоя пленки и т. д. Основными недостатками этого метода являются то, что нелегко получить пленки с кристаллической структурой, адгезия пленки к подложке мала, и повторяемость процесса недостаточно хороша.
В последние годы благодаря электронному испарению, высокочастотному индукционному испарению, а также лазерному испарению и другим технологиям в технологии вакуумного испарения покрытия нашли широкое применение, так что эта технология стала более совершенной и широко используется в машиностроении, электровакууме, радиотехнике, оптике, атомной энергетике.
Время публикации: 17-авг-2023