ဖလင်အလွှာ/အလွှာမျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲခြင်း၏ သက်ရောက်မှု

အမြှေးပါးအက်တမ်များ အပ်နှံမှုစတင်သောအခါ၊ အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲခြင်းသည် အမြှေးပါး/အလွှာမျက်နှာပြင်အပေါ်တွင် အောက်ပါအကျိုးသက်ရောက်မှုများရှိသည်။

(၁) ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာရောစပ်ခြင်း။ မြင့်မားသောစွမ်းအင်အိုင်းယွန်းထိုးသွင်းခြင်း၊ အပ်နှံထားသောအက်တမ်များ၏ sputtering နှင့် မျက်နှာပြင်အက်တမ်များနှင့် cascade collision phenomenon တို့သည် substrate element များနှင့် membrane ဒြပ်စင်များ၏အမြှေးပါးကြားခံနှင့်အမြှေးပါးကြားရှိ အမြှေးပါးဒြပ်စင်များ၏ မျက်နှာပြင်အနီးအနားကိုဖြစ်စေသည်၊ ဤရောစပ်အကျိုးသက်ရောက်မှုသည် အမြှေးပါး၏ဖွဲ့စည်းခြင်းအတွက် အထောက်အကူဖြစ်စေလိမ့်မည်၊ အကယ်၍ အသွင်ပြောင်းခြင်း/အလွှာကြားရှိ အမြှေးပါး/အလွှာကြားရှိ အမြှေးပါး၊ အမြှေးပါး/အခြေခံ မျက်နှာပြင်၊ မိုက်ခရို အနည်းငယ်အထိ အထူ။ အဆင့်အသစ်များပင် ပေါ်လာနိုင်သည့် မိုက်ခရိုမီတာ အနည်းငယ် အထူရှိသည်။ ၎င်းသည် အမြှေးပါး/အောက်ခံမျက်နှာပြင်၏ ကပ်တွယ်မှုအားကောင်းစေရန်အတွက် အလွန်ကောင်းမွန်သည်။

(၂) ပျံ့နှံ့မှုကို အားကောင်းစေခြင်း။ မျက်နှာပြင်အနီးရှိ မြင့်မားသော ချို့ယွင်းချက်အာရုံစူးစိုက်မှု နှင့် အပူချိန်မြင့်မားမှုသည် ပျံ့နှံ့မှုနှုန်းကို တိုးစေသည်။ မျက်နှာပြင်သည် ပွိုင့်ချို့ယွင်းချက်တစ်ခုဖြစ်သောကြောင့်၊ အိုင်းယွန်းငယ်များသည် မျက်နှာပြင်ကို လှည့်ထွက်ရန် အလားအလာရှိပြီး အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲခြင်းသည် မျက်နှာပြင်ကို ကွဲလွဲမှုကို ပိုမိုအားကောင်းစေကာ အနည်ကျနေသော အက်တမ်များ၏ အပြန်အလှန်ပျံ့နှံ့မှုကို အားကောင်းစေပါသည်။

(၃) nucleation mode ကို ပိုမိုကောင်းမွန်အောင် ပြုလုပ်ပါ။ အလွှာမျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အက်တမ်၏ ဂုဏ်သတ္တိများကို ၎င်း၏ မျက်နှာပြင် အပြန်အလှန် ဆက်သွယ်မှုနှင့် မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ ၎င်း၏ ရွှေ့ပြောင်းခြင်း ဂုဏ်သတ္တိများဖြင့် ဆုံးဖြတ်သည်။ condensed atom နှင့် substrate ၏မျက်နှာပြင်ကြားတွင် ပြင်းထန်သောအပြန်အလှန်တုံ့ပြန်မှုမရှိပါက၊ အက်တမ်သည် စွမ်းအင်မြင့်မားသောအနေအထားတွင် nucleates သို့မဟုတ် အခြားပျံ့နှံ့နေသောအက်တမ်များနှင့် တိုက်မိသည်အထိ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ပျံ့နှံ့သွားမည်ဖြစ်သည်။ ဤ nucleation ပုံစံကို non-reactive nucleation ဟုခေါ်သည်။ မူလက ဓာတ်ပြုမှုမရှိသော နျူကလိယမုဒ်တွင် ပါဝင်နေသော်လည်း၊ အလွှာမျက်နှာပြင်၏ အိုင်းယွန်းကို ဗုံးကြဲခြင်းဖြင့် အပြစ်အနာအဆာများကို ပိုမိုထုတ်လုပ်နိုင်ပြီး ပျံ့နှံ့မှုကို ဖြစ်ပေါ်စေသည့် နျူကလိယသိပ်သည်းဆကို တိုးမြင့်စေနိုင်သည်၊ ၎င်းသည် ပျံ့ပွားမှု—ဓာတ်ပြုမှုနျူကလိယမုဒ်ကို ဖွဲ့စည်းရန် ပိုမိုအထောက်အကူဖြစ်စေသည်။

(၄) ချည်နှောင်ထားသော အက်တမ်များကို ဦးစားပေး ဖယ်ရှားခြင်း။ မျက်နှာပြင်အက်တမ်များ၏ sputtering ကို local bonding state က ဆုံးဖြတ်ပြီး မျက်နှာပြင်၏ အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲမှုသည် လျော့ရဲရဲတွဲထားသော အက်တမ်များ ထွက်လာနိုင်ချေ ပိုများပါသည်။ ဤအကျိုးသက်ရောက်မှုသည် diffusion-reactive interfaces များဖွဲ့စည်းရာတွင်ပိုမိုထင်ရှားသည်။

(၅) မျက်နှာပြင် ဖုံးလွှမ်းမှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေခြင်းနှင့် ပလပ်စတစ် ပတ်လမ်းကို မြှင့်တင်ပေးခြင်း။ အိုင်းယွန်း plating ၏ မြင့်မားသော ဓာတ်ငွေ့ဖိအားကြောင့်၊ အငွေ့ပျံသွားသော သို့မဟုတ် ကွဲအက်နေသော အက်တမ်များသည် ကွဲအက်မှုကို တိုးမြင့်လာစေရန်အတွက် ဓာတ်ငွေ့အက်တမ်များနှင့် တိုက်မိပြီး အပေါ်ယံ ပတ်ပတ်လည်တွင် ကောင်းမွန်သော ပတ်၀န်းကျင် ဂုဏ်သတ္တိများကို ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။

- ဤဆောင်းပါးကိုထုတ်ဝေသည်။ဖုန်စုပ်စက်အလွှာထုတ်လုပ်သူGuangdong Zhenhua