Apabila pemendapan atom membran bermula, pengeboman ion mempunyai kesan berikut pada antara muka membran/substrat.
(1) Pencampuran fizikal. Disebabkan oleh suntikan ion bertenaga tinggi, percikan atom yang termendap dan suntikan sentakan atom permukaan serta fenomena perlanggaran lata, akan menyebabkan luas permukaan berhampiran antara muka membran/asas unsur substrat dan unsur membran bagi pencampuran bukan resapan, kesan pencampuran ini akan mendorong pembentukan "lapisan pseudo-resapan" antara muka membran/asas, iaitu lapisan peralihan antara antara muka membran/asas, sehingga beberapa mikron tebal. Beberapa mikrometer tebal, di mana fasa baharu mungkin muncul. Ini sangat baik untuk meningkatkan kekuatan lekatan antara muka membran/asas.
(2) Resapan yang dipertingkatkan. Kepekatan kecacatan yang tinggi di kawasan berhampiran permukaan dan suhu tinggi meningkatkan kadar resapan. Memandangkan permukaan merupakan kecacatan titik, ion kecil cenderung untuk memesongkan permukaan, dan pengeboman ion mempunyai kesan meningkatkan lagi pesongan permukaan dan meningkatkan resapan bersama atom yang termendap dan substrat.
(3) Mod nukleasi yang dipertingkatkan. Sifat-sifat atom yang terkondensasi pada permukaan substrat ditentukan oleh interaksi permukaannya dan sifat penghijrahannya pada permukaan. Jika tiada interaksi yang kuat antara atom yang terkondensasi dan permukaan substrat, atom akan meresap pada permukaan sehingga ia bernukleasi pada kedudukan bertenaga tinggi atau berlanggar dengan atom meresap lain. Mod nukleasi ini dipanggil nukleasi bukan reaktif. Walaupun yang asal tergolong dalam kes mod nukleasi bukan reaktif, pengeboman ion pada permukaan substrat boleh menghasilkan lebih banyak kecacatan, meningkatkan ketumpatan nukleasi, yang lebih kondusif untuk pembentukan mod nukleasi resapan – reaktif.
(4) Penyingkiran atom yang terikat longgar secara keutamaan. Percikan atom permukaan ditentukan oleh keadaan ikatan setempat, dan pengeboman ion pada permukaan lebih cenderung untuk menyemburkan atom yang terikat longgar. Kesan ini lebih ketara dalam pembentukan antara muka reaktif resapan.
(5) Penambahbaikan liputan permukaan dan peningkatan pintasan penyaduran. Disebabkan oleh tekanan gas kerja penyaduran ion yang tinggi, atom yang tersejat atau terpercik terdedah kepada perlanggaran dengan atom gas untuk meningkatkan penyerakan, menghasilkan sifat pembalut salutan yang baik.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 9 Dis-2023