Cuando comienza la deposición de átomos de membrana, el bombardeo iónico tiene los siguientes efectos en la interfaz membrana/sustrato.
(1) Mezcla física. Debido a la inyección de iones de alta energía, la pulverización de los átomos depositados y la inyección de retroceso de los átomos de la superficie y el fenómeno de colisión en cascada, se producirá una mezcla sin difusión en la zona cercana a la superficie de la interfaz membrana/base de los elementos del sustrato y los elementos de la membrana. Este efecto de mezcla favorecerá la formación de una "capa de pseudodifusión" en la interfaz membrana/base, es decir, una capa de transición entre la interfaz membrana/base, de hasta unos pocos micrómetros de espesor. En esta capa, incluso pueden aparecer nuevas fases. Esto es muy favorable para mejorar la fuerza de adhesión de la interfaz membrana/base.
(2) Difusión mejorada. La alta concentración de defectos en la región cercana a la superficie y la alta temperatura aumentan la velocidad de difusión. Dado que la superficie es un defecto puntual, los iones pequeños tienden a desviarla, y el bombardeo iónico tiene el efecto de intensificar aún más la desviación de la superficie y mejorar la difusión mutua de los átomos depositados y del sustrato.
(3) Modo de nucleación mejorado. Las propiedades del átomo condensado en la superficie del sustrato están determinadas por su interacción superficial y sus propiedades de migración en la superficie. Si no hay una interacción fuerte entre el átomo condensado y la superficie del sustrato, el átomo se difundirá en la superficie hasta que se nuclee en una posición de alta energía o colisiona con otros átomos en difusión. Este modo de nucleación se denomina nucleación no reactiva. Incluso si el caso original pertenece al caso del modo de nucleación no reactiva, mediante el bombardeo iónico de la superficie del sustrato se pueden producir más defectos, aumentando la densidad de nucleación, lo que es más propicio para la formación del modo de nucleación reactiva por difusión.
(4) Eliminación preferencial de átomos débilmente enlazados. La pulverización catódica de los átomos de la superficie está determinada por el estado de enlace local, y el bombardeo iónico de la superficie tiene mayor probabilidad de pulverizar los átomos débilmente enlazados. Este efecto es más pronunciado en la formación de interfaces reactivas por difusión.
(5) Mejora de la cobertura de la superficie y mejora del desvío de la galvanoplastia. Debido a la alta presión del gas de trabajo de la galvanoplastia iónica, los átomos evaporados o pulverizados se someten a colisiones con átomos de gas para mejorar la dispersión, lo que da como resultado buenas propiedades de recubrimiento envolvente.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Fecha de publicación: 9 de diciembre de 2023