Pelapisan penguapan vakum (disebut sebagai pelapisan penguapan) berada dalam lingkungan vakum, evaporator memanaskan bahan film untuk membuatnya menjadi gasifikasi, penguapan bahan film dari aliran partikel langsung ke substrat dan pengendapan substrat, pembentukan teknologi film padat. Penguapan vakum adalah teknologi PVD dalam pengembangan teknologi film kota yang paling awal dan lebih banyak digunakan, meskipun pengembangan sputtering dan pelapisan ion kemudian dalam banyak aspek daripada keunggulan penguapan vakum, tetapi teknologi film kota penguapan vakum masih memiliki banyak keuntungan, seperti peralatan dan proses yang relatif sederhana, baik pengendapan film yang sangat murni, tetapi juga dapat disiapkan dengan struktur dan sifat lapisan film tertentu, dll. Kerugian utama dari metode ini adalah tidak mudah untuk mendapatkan film dengan struktur kristal, adhesi film pada substrat kecil, dan pengulangan proses tidak cukup baik.
Dalam beberapa tahun terakhir, karena penguapan pemboman elektron, penguapan induksi frekuensi tinggi, serta penguapan laser dan teknologi lainnya dalam teknologi pelapisan penguapan vakum dalam aplikasi umum teknologi, sehingga teknologi ini lebih sempurna, dan banyak digunakan dalam mesin, vakum listrik, radio, optik, energi atom untuk menemukan kota.
Waktu posting: 17-Agu-2023