Vakuumsko isparavanje (naziva se isparavanje premaza) je u vakuumskom okruženju, gdje se isparivač zagrijava filmski materijal kako bi se rasplinjao, a čestice filmskog materijala isparavaju se izravno na podlogu i talože se na podlozi, čime se formira tehnologija čvrstog filma. Vakuumsko isparavanje je najranija i šire korištena PVD tehnologija u razvoju, iako je kasnije razvijeno raspršivanje i ionsko prevlačenje u mnogim aspektima superiornije od vakuumskog isparavanja, ali vakuumsko isparavanje i dalje ima mnogo prednosti, kao što su relativno jednostavna oprema i proces, taloženje vrlo čistog filma, ali se također može pripremiti sa specifičnom strukturom i svojstvima sloja filma itd. Glavni nedostaci ove metode su što nije lako dobiti filmove s kristalnom strukturom, prianjanje filma na podlogu je malo i ponovljivost procesa nije dovoljno dobra.
Posljednjih godina, zbog isparavanja bombardiranjem elektronima, visokofrekventnog indukcijskog isparavanja, kao i laserskog isparavanja i drugih tehnologija u tehnologiji vakuumskog isparavanja premaza u općoj primjeni tehnologije, ova tehnologija je postala savršenija i široko se koristi u strojevima, električnom vakuumu, radiju, optici, atomskoj energiji kako bi se pronašao grad.
Vrijeme objave: 17. kolovoza 2023.