Vakuumfordampningsbelægning (kaldet evaporationcoating) foregår i et vakuummiljø, hvor filmmaterialet opvarmes ved hjælp af fordamperen for at forgasse det. Partikelstrømmen fra filmmaterialet fordampes direkte på substratet og aflejres under substratet, hvilket fører til dannelsen af en fast filmteknologi. Vakuumfordampning er PVD-teknologiens tidligste og mest udbredte teknologi til stadfilm. Selvom sputtering og ionbelægning er blevet udviklet senere, er vakuumfordampningsteknologien på mange måder bedre end vakuumfordampning, har den stadig mange fordele. Det er relativt enkelt at fremstille udstyr og processer, og både aflejringen af en meget ren film kan opnås, og filmlaget kan fremstilles med specifikke strukturer og egenskaber. De største ulemper ved denne metode er, at det ikke er let at opnå film med krystallinsk struktur, filmens vedhæftning til substratet er lav, og processens gentagelsesnøjagtighed er utilstrækkelig.
I de senere år har vakuumfordampningsbelægningsteknologi, højfrekvent induktionsfordampning samt laserfordampning og andre teknologier i den generelle anvendelse af teknologien været mere perfekt og meget udbredt i maskiner, elektrisk vakuum, radio, optik og atomenergi.
Opslagstidspunkt: 17. august 2023