U rivestimentu per evaporazione à u vacuum (chjamatu rivestimentu per evaporazione) hè in un ambiente à u vacuum, u materiale di film riscaldatu da l'evaporatore per fà a gasificazione, l'evaporazione di u materiale di u film di u flussu di particelle direttamente à u sustratu è a deposizione di u sustratu, a furmazione di tecnulugia di film solidu. L'evaporazione à u vacuum hè a tecnulugia PVD in u sviluppu di a tecnulugia di film di cità più antica, più largamente aduprata, ancu s'è u sviluppu più tardi di sputtering è placcatura ionica in parechji aspetti chè a superiorità di l'evaporazione à u vacuum, ma a tecnulugia di film di cità per evaporazione à u vacuum hà sempre assai vantaghji, cum'è l'equipaggiu è u prucessu hè relativamente simplice, sia a deposizione di film assai puru, ma pò ancu esse preparatu cù una struttura specifica è proprietà di u stratu di film, ecc. I principali svantaghji di stu metudu sò chì ùn hè micca faciule ottene filmi cù una struttura cristallina, l'adesione di u film nantu à u sustratu hè chjuca, è a ripetibilità di u prucessu ùn hè micca abbastanza bona.
In l'ultimi anni, per via di l'evaporazione di u bumbardamentu elettronicu, l'evaporazione di l'induzione à alta frequenza, è ancu l'evaporazione laser è altre tecnulugie in a tecnulugia di rivestimentu di l'evaporazione à vuoto in l'applicazione generale di a tecnulugia, affinchì sta tecnulugia sia più perfetta, è largamente aduprata in macchine, vuoto elettricu, radio, ottica, energia atomica per truvà a cità.
Data di publicazione: 17 d'aostu 2023