Вакуумното изпаряване (наричано изпарително покритие) се извършва във вакуумна среда, като изпарителят нагрява филмовия материал, за да го газифицира. Изпаряването на филмовия материал на потока от частици директно върху субстрата и отлагането му върху субстрата, образувайки технология за твърдо филмово покритие. Вакуумното изпаряване е PVD технология в развитието на най-ранната и по-широко използвана технология за нанасяне на филмово покритие. Въпреки че по-късно разпрашването и йонното покритие превъзхождат вакуумното изпаряване в много аспекти, тя все още има много предимства, като например сравнително просто оборудване и процес, както за отлагане на много чист филм, така и за получаване на филмов слой със специфична структура и свойства. Основните недостатъци на този метод са, че не е лесно да се получат филми с кристална структура, адхезията на филма върху субстрата е малка и повторяемостта на процеса не е достатъчно добра.
През последните години, поради електронно бомбардиране с изпарение, високочестотно индукционно изпарение, както и лазерно изпарение и други технологии във вакуумно изпарителното покритие, технологията се прилага в общото приложение на технологията, така че тази технология е по-съвършена и се използва широко в машиностроенето, електровакуумната техника, радиото, оптиката и атомната енергия.
Време на публикуване: 17 август 2023 г.