MAELEZO YA BIDHAA
Vifaa vya kusafisha plasma ya utupu huchukua muundo jumuishi, ulio na mfumo wa kusafisha ion RF, udhibiti wa kiotomatiki kikamilifu, uendeshaji rahisi na matengenezo.
Jenereta ya RF ya juu-frequency inaweza kuzalisha plasma ya juu-wiani, kuamsha, etch na ashing uso workpiece, kwa ufanisi kuondoa vumbi na grisi juu ya uso wa bidhaa, kutolewa dhiki ya uso, na kupata marekebisho mbalimbali juu ya uso workpiece.
Inatumika kwa mpira, kioo, kauri, chuma na bidhaa nyingine, na inatumika kwa microelectronics, LCD, LED, LCM, bodi ya mzunguko ya PCB, vifungashio vya semiconductor, vifaa vya matibabu, majaribio ya sayansi ya maisha na nyanja nyingine.
Mifano ya hiari
| VLY1000 | VLY0810 |
| φ1000*H1000(mm)
| φ800*H1000(mm)
|
VIFAA JAMAA
Bofya Tazama
Vifaa vya mipako ya uvukizi wa udhibiti wa magnetic
Vifaa huunganisha teknolojia ya magnetron sputtering na uvukizi wa upinzani, na hutoa suluhisho kwa mipako ya aina mbalimbali za substrates. Jaribio hilo...
Mifumo ya majaribio ya kunyunyizia sumaku ya PVD
Vifaa huunganisha teknolojia ya magnetron sputtering na mipako ya ioni, na hutoa suluhisho la kuboresha uwiano wa rangi, kiwango cha uwekaji na uthabiti wa compoun...
Mipako ya uvukizi ya boriti ndogo ya elektroni ya GX600...
Vifaa vinachukua muundo wa mlango wa mbele wa wima na mpangilio wa nguzo. Inaweza kuwa na vyanzo vya uvukizi wa metali na vifaa mbalimbali vya kikaboni, na inaweza kuyeyuka...
Roli ya majaribio ya kuweka vifaa vya mipako
Majaribio ya vifaa vya kuweka mipako yanachukua teknolojia ya upakaji inayochanganya magnetron sputtering na cathode arc, ambayo inakidhi mahitaji ya filamu zote mbili ...