Технологија наношења помоћу јонског снопа је технологија премазивања убризгавањем јонског снопа и наношењем паре комбинована са технологијом обраде површинских композита јонским снопом. У процесу модификације површине јонским убризганим материјалима, било да су то полупроводнички материјали или инжењерски материјали, често је пожељно да дебљина модификованог слоја буде много већа од дебљине јонске имплантације, али се такође желе задржати предности процеса јонске имплантације, као што је могућност обраде оштре површине између модификованог слоја и подлоге на собној температури. Стога, комбиновањем јонске имплантације са технологијом премазивања, јони одређене енергије се континуирано убризгавају у површину између филма и подлоге током премазивања, а атоми на површини се мешају помоћу каскадних судара, формирајући прелазну зону мешања атома близу почетне површине како би се побољшала сила везивања између филма и подлоге. Затим, у зони мешања атома, филм са потребном дебљином и својствима наставља да расте уз учешће јонског снопа.
Ово се назива таложење потпомогнуто јонским снопом (IBED), које задржава карактеристике процеса јонске имплантације, а истовремено омогућава да се подлога премаже танким филмским материјалом који је потпуно другачији од подлоге.
Таложење уз помоћ јонског снопа има следеће предности.
(1) Пошто таложење уз помоћ јонског снопа генерише плазму без гасног пражњења, наношење премаза може се извршити под притиском <10⁻² Па, смањујући контаминацију гасом.
(2) Основни параметри процеса (енергија јона, густина јона) су електрични. Генерално, није потребно контролисати проток гаса и друге неелектричне параметре, лако је контролисати раст слоја филма, подесити састав и структуру филма, лако осигурати поновљивост процеса.
(3) Површина радног предмета може бити пресвучена филмом који је потпуно другачији од подлоге, а дебљина није ограничена енергијом јона бомбардовања на ниској температури (<200℃). Погодан је за површинску обраду допираних функционалних филмова, хладно обрађених прецизних калупа и конструкционог челика отпуштеног на ниским температурама.
(4) То је неравнотежни процес контролисан на собној температури. Нови функционални филмови као што су фазе високе температуре, субстабилне фазе, аморфне легуре итд. могу се добити на собној температури.
Недостаци таложења уз помоћ јонског снопа су.
(1) Пошто јонски сноп има карактеристике директног зрачења, тешко је обрадити сложен облик површине радног предмета.
(2) Тешко је обрађивати велике и површинске радне комаде због ограничења величине тока јонског снопа.
(3) Брзина таложења уз помоћ јонског снопа је обично око 1 nm/s, што је погодно за припрему танких филмских слојева, а није погодно за наношење превлаке у великим количинама производа.
–Овај чланак је објављен од странепроизвођач машина за вакуумско премазивањеГуангдонг Зхенхуа
Време објаве: 16. новембар 2023.