Tehnologija nanašanja z ionskim žarkom je tehnologija nanašanja z vbrizgavanjem ionskega žarka in nanašanjem s paro v kombinaciji s tehnologijo obdelave površinskih kompozitov z ionskimi ...
Temu pravimo nanašanje z ionskim snopom (IBED), ki ohranja značilnosti postopka ionske implantacije, hkrati pa omogoča, da se substrat prevleče s tankoplastnim materialom, ki je popolnoma drugačen od substrata.
Nanašanje z ionskim žarkom ima naslednje prednosti.
(1) Ker nanašanje z ionskim žarkom ustvarja plazmo brez plinskega praznjenja, se lahko nanašanje izvede pri tlaku <10⁻² Pa, kar zmanjša onesnaženje s plinom.
(2) Osnovni procesni parametri (ionska energija, gostota ionov) so električni. Na splošno ni treba nadzorovati pretoka plina in drugih neelektričnih parametrov, enostavno je nadzorovati rast filmske plasti, prilagajati sestavo in strukturo filma ter tako zagotoviti ponovljivost postopka.
(3) Površina obdelovanca je lahko prevlečena s filmom, ki je popolnoma drugačen od substrata, debelina pa ni omejena z energijo bombardiranih ionov pri nizki temperaturi (<200 ℃). Primeren je za površinsko obdelavo dopiranih funkcionalnih filmov, hladno obdelanih preciznih kalupov in nizkotemperaturno kaljenega konstrukcijskega jekla.
(4) Gre za neravnovesni proces, ki poteka pri sobni temperaturi. Nove funkcionalne filme, kot so visokotemperaturne faze, substabilne faze, amorfne zlitine itd., je mogoče dobiti pri sobni temperaturi.
Slabosti nanašanja z ionskim žarkom so.
(1) Ker ima ionski žarek lastnosti neposrednega sevanja, je težko obvladovati kompleksno obliko površine obdelovanca.
(2) Zaradi omejitve velikosti toka ionskega žarka je težko obdelovati obdelovance velikih dimenzij in površin.
(3) Hitrost nanašanja z ionskim žarkom je običajno okoli 1 nm/s, kar je primerno za pripravo tankih plasti in ni primerno za nanašanje velikih količin izdelkov.
–Ta članek je objavilproizvajalec strojev za vakuumsko lakiranjeGuangdong Zhenhua
Čas objave: 16. november 2023