Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd မှ ကြိုဆိုပါတယ်။
တစ်ခုတည်းသော ဘန်နာ

Hollow cathode hard coating ပစ္စည်းတွေရဲ့ နည်းပညာဆိုင်ရာ အခြေခံမူက ဘာလဲ။

ဆောင်းပါးရင်းမြစ်- Zhenhua ဖုန်စုပ်စက်
ဖတ်ရန်: ၁၀
ထုတ်ဝေသည့်ရက်စွဲ: ၂၂-၁၁-၀၇

အိုင်းယွန်းအုပ်ခြင်းဆိုသည်မှာ ဓာတ်ပြုပစ္စည်းများ သို့မဟုတ် အငွေ့ပျံသွားသောပစ္စည်းများကို ဓာတ်ငွေ့အိုင်းယွန်းများ သို့မဟုတ် အငွေ့ပျံသွားသောပစ္စည်းများ၏ အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲခြင်းဖြင့် အလွှာပေါ်တွင် စုပုံစေပြီး အငွေ့ပျံသွားသောပစ္စည်းများကို ဖုန်စုပ်ခန်းတွင် ခွဲထုတ်ခြင်း သို့မဟုတ် ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်ခြင်းဖြစ်သည်။ အခေါင်းပေါက်ကတ်သုတ်အလွှာမာကျောအုပ်ခြင်းပစ္စည်းကိရိယာများ၏ နည်းပညာဆိုင်ရာမူမှာ အခေါင်းပေါက်ကတ်သုတ်အလွှာအိုင်းယွန်းအုပ်ခြင်းဖြစ်ပြီး ၎င်းသည် အခေါင်းပေါက်ကတ်သုတ်အလွှာထုတ်လွှတ်သည့်နည်းပညာတစ်ခုဖြစ်သည်။

အခေါင်းပါ ကက်သုတ် လျှပ်စီးကြောင်း ထုတ်ယူခြင်း၏ နိယာမအကြောင်း- အခေါင်းပါ ကက်သုတ် လျှပ်စီးကြောင်း ထုတ်ယူခြင်း နည်းပညာသည် ပလာစမာ ရောင်ခြည်တန်း ထုတ်လုပ်ရန် အပူ ကက်သုတ် လျှပ်စီးကြောင်းကို အသုံးပြုပြီး ကက်သုတ်သည် အခေါင်းပါ တမ်တာလမ် ပြွန် တစ်ခုဖြစ်သည်။ ကက်သုတ်နှင့် အရန် အန်နုတ်တို့သည် တစ်ခုနှင့်တစ်ခု နီးကပ်စွာ တည်ရှိပြီး ၎င်းတို့သည် အာ့ခ် လျှပ်စီးကြောင်းကို လောင်ကျွမ်းစေသည့် ဝင်ရိုးစွန်း နှစ်ခု ဖြစ်သည်။
Hollow ca ရဲ့ နည်းပညာဆိုင်ရာ နိယာမဆိုတာ ဘာလဲ။
အခေါင်းပါ ကက်သုတ် စွန့်ထုတ်သေနတ်သည် နည်းလမ်းနှစ်မျိုးဖြင့် မီးလောင်ကျွမ်းနိုင်သည်။
၁။ ကက်သုတ်တန္တလမ်ပြွန်တွင် မြင့်မားသောကြိမ်နှုန်းလျှပ်စစ်စက်ကွင်းကို အသုံးပြု၍ ကက်သုတ်တန္တလမ်ပြွန်ကို အာဂွန်ဓာတ်ငွေ့ဖြင့် အာဂွန်အိုင်းယွန်းများအဖြစ်သို့ ပြောင်းလဲပြီးနောက် ကက်သုတ်တန္တလမ်ပြွန်ကို အာဂွန်အိုင်းယွန်းများဖြင့် အဆက်မပြတ် ဗုံးကြဲတိုက်ခိုက်ခြင်းဖြင့် အပူသည် အီလက်ထရွန်ထုတ်လွှတ်မှု၏ အနိမ့်ဆုံးအပူချိန်စံနှုန်းအထိ နွေးလာပြီး ပလာစမာအီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်ကို ထုတ်လွှတ်ပေးသည်။

၂။ အရန် anode နှင့် cathode tantalum ပြွန်တွင် 300V DC ဗို့အားခန့်ကို အသုံးပြုသည့်အခါ cathode tantalum ပြွန်သည် argon ဓာတ်ငွေ့ထဲသို့ ဝင်ရောက်နေဆဲဖြစ်ပြီး 1Pa-10Pa argon ဓာတ်ငွေ့ဖိအားတွင် အရန် anode နှင့် cathode tantalum ပြွန်၏ တောက်ပသော ထုတ်လွှတ်မှုဖြစ်စဉ်သည် argon အိုင်းယွန်းများ ပေါက်ကွဲထွက်လာပြီး cathode tantalum ပြွန်ကို အဆက်မပြတ် ပေါက်ကွဲစေပြီး 2300K-2400K အပူချိန်အထိ cathode tantalum ပြွန်သည် အီလက်ထရွန်များစွာကို ထုတ်လွှတ်ကာ “glow discharge” မှ “arc discharge” သို့ ပြောင်းလဲသွားမည်ဖြစ်ကာ ယခုတစ်ကြိမ်တွင် ဗို့အားသည် 30V-60V အထိ နိမ့်နေပါက cathode နှင့် anode အကြား ပါဝါထောက်ပံ့မှုရှိနေသရွေ့ plasma electron beam ကို ထုတ်လုပ်နိုင်ပါသည်။

ကက်သိုဒစ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းများ
၁။ မူလအမြင့်ဆုံးလျှပ်စီးကြောင်း 230A မှ 280A အထိ မူလသေနတ်ဖွဲ့စည်းပုံကို ပိုမိုကောင်းမွန်အောင်ပြုလုပ်ပါ။
၂။ မူလအအေးပေးစနစ်ဖွဲ့စည်းပုံကို ၄ ဒီဂရီစင်တီဂရိတ် ရေခဲရေစက်အအေးပေးစနစ်မှ အခန်းအပူချိန်အအေးပေးရေအအေးပေးစနစ်သို့ မြှင့်တင်ခြင်းဖြင့် အသုံးပြုသူများအတွက် လျှပ်စစ်ဓာတ်အားကုန်ကျစရိတ်ကို သက်သာစေသည်။
၃။ မူလစက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂီယာဖွဲ့စည်းပုံကို တိုးတက်ကောင်းမွန်အောင်ပြုလုပ်ပြီး သံလိုက်အရည်ဂီယာဖွဲ့စည်းပုံသို့ပြောင်းလဲထားသောကြောင့် အပူချိန်မြင့်မားခြင်းသည် လည်ပတ်နေသောဘောင်ကို အနှောင့်အယှက်မဖြစ်စေပါ။
၄။ ထိရောက်သော အပေါ်ယံလွှာဧရိယာ ¢ 650X1100 သည် 750 X 1250X600 အရွယ်အစားကြီးမားသော die နှင့် gear ထုတ်လုပ်သူများအတွက် အလွန်ကြီးမားသော broach များကို ထားရှိနိုင်သည်။

အခေါင်းပါ ကက်သုတ်အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံလွှာစက်ကို အဓိကအားဖြင့် ကိရိယာများ၊ မှိုများ၊ မှန်ကြီးများ၊ ပလတ်စတစ်မှိုများ၊ မီးဖိုချောင်သုံးဓားများနှင့် အခြားထုတ်ကုန်များ ಲೇಪရာတွင် အသုံးပြုသည်။


ပို့စ်တင်ချိန်: ၂၀၂၂ ခုနှစ်၊ နိုဝင်ဘာလ ၇ ရက်