आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशन टेक्नॉलॉजी म्हणजे आयन बीम इंजेक्शन आणि वाष्प डिपॉझिशन कोटिंग टेक्नॉलॉजी जी आयन पृष्ठभाग संमिश्र प्रक्रिया तंत्रज्ञानासह एकत्रित केली जाते. आयन इंजेक्टेड मटेरियलच्या पृष्ठभागावरील बदल प्रक्रियेत, सेमीकंडक्टर मटेरियल असो किंवा इंजिनिअरिंग मटेरियल असो, बहुतेकदा अशी इच्छा असते की सुधारित थराची जाडी आयन इम्प्लांटेशनपेक्षा खूप जास्त असावी, परंतु आयन इंजेक्शन प्रक्रियेचे फायदे देखील टिकवून ठेवायचे असतात, जसे की सुधारित थर आणि तीक्ष्ण इंटरफेसमधील सब्सट्रेट, खोलीच्या तापमानावर वर्कपीसवर प्रक्रिया करता येते, इत्यादी. म्हणून, कोटिंग तंत्रज्ञानासह आयन इम्प्लांटेशन एकत्र करून, कोटिंग करताना फिल्म आणि सब्सट्रेटमधील इंटरफेसमध्ये विशिष्ट उर्जेसह आयन सतत इंजेक्ट केले जातात आणि कॅस्केड टक्करांच्या मदतीने इंटरफेशियल अणू मिसळले जातात, ज्यामुळे फिल्म आणि सब्सट्रेटमधील बाँडिंग फोर्स सुधारण्यासाठी सुरुवातीच्या इंटरफेसजवळ अणू मिक्सिंग ट्रान्झिशन झोन तयार होतो. त्यानंतर, अणू मिक्सिंग झोनवर, आवश्यक जाडी आणि गुणधर्म असलेली फिल्म आयन बीमच्या सहभागाने वाढत राहते.
याला आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशन (IBED) म्हणतात, जे आयन इम्प्लांटेशन प्रक्रियेची वैशिष्ट्ये टिकवून ठेवते आणि सब्सट्रेटला सब्सट्रेटपेक्षा पूर्णपणे वेगळ्या पातळ फिल्म मटेरियलने लेपित करण्याची परवानगी देते.
आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशनचे खालील फायदे आहेत.
(१) आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशनमुळे गॅस डिस्चार्जशिवाय प्लाझ्मा निर्माण होतो, त्यामुळे कोटिंग <10-2 Pa च्या दाबाने करता येते, ज्यामुळे गॅस दूषितता कमी होते.
(२) मूलभूत प्रक्रिया पॅरामीटर्स (आयन ऊर्जा, आयन घनता) विद्युत आहेत. साधारणपणे वायू प्रवाह आणि इतर गैर-विद्युत पॅरामीटर्स नियंत्रित करण्याची आवश्यकता नसते, तुम्ही फिल्म लेयरची वाढ सहजपणे नियंत्रित करू शकता, फिल्मची रचना आणि रचना समायोजित करू शकता, प्रक्रियेची पुनरावृत्तीक्षमता सुनिश्चित करणे सोपे आहे.
(३) वर्कपीसच्या पृष्ठभागावर अशा फिल्मचा लेप लावता येतो जो सब्सट्रेटपेक्षा पूर्णपणे वेगळा असतो आणि कमी तापमानात (<२००℃) बॉम्बार्डमेंट आयनच्या उर्जेने जाडी मर्यादित नसते. हे डोप्ड फंक्शनल फिल्म्स, कोल्ड मशीन्ड प्रिसिजन मोल्ड्स आणि कमी तापमानाच्या टेम्पर्ड स्ट्रक्चरल स्टीलच्या पृष्ठभागावरील उपचारांसाठी योग्य आहे.
(४) ही एक असंतुलित प्रक्रिया आहे जी खोलीच्या तपमानावर नियंत्रित केली जाते. उच्च-तापमान टप्पे, सबस्टेबल टप्पे, अनाकार मिश्रधातू इत्यादी नवीन कार्यात्मक फिल्म्स खोलीच्या तपमानावर मिळवता येतात.
आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशनचे तोटे आहेत.
(१) आयन बीममध्ये थेट रेडिएशन वैशिष्ट्ये असल्याने, वर्कपीसच्या जटिल पृष्ठभागाच्या आकाराशी व्यवहार करणे कठीण आहे.
(२) आयन बीम प्रवाहाच्या आकाराच्या मर्यादेमुळे मोठ्या प्रमाणात आणि मोठ्या क्षेत्रफळाच्या वर्कपीस हाताळणे कठीण आहे.
(३) आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशन रेट साधारणतः १ नॅनोमीटर/सेकंदाच्या आसपास असतो, जो पातळ फिल्म थर तयार करण्यासाठी योग्य असतो आणि मोठ्या प्रमाणात उत्पादनांच्या प्लेटिंगसाठी योग्य नसतो.
- हा लेख प्रकाशित केला आहेव्हॅक्यूम कोटिंग मशीन निर्माताग्वांगडोंग झेन्हुआ
पोस्ट वेळ: नोव्हेंबर-१६-२०२३