Plasma-direkt Polymerisatiounsprozess

Plasma-direkt Polymerisatiounsprozess

De Prozess vun der Plasmapolymerisatioun ass relativ einfach souwuel fir intern Elektrodenpolymerisatiounsausrüstung wéi och fir extern Elektrodenpolymerisatiounsausrüstung, awer d'Parameterauswiel ass méi wichteg bei der Plasmapolymerisatioun, well d'Parameteren e gréisseren Afloss op d'Struktur an d'Leeschtung vu Polymerfilmer während der Plasmapolymerisatioun hunn.

D'Operatiounsschrëtt fir direkt Plasmapolymerisatioun sinn wéi follegt:

(1) Staubsaugen

Den Hannergrondvakuum vun der Polymerisatioun ënner Vakuumbedingungen soll op 1,3 × 10⁻⁹ Pa gepompelt ginn. Fir Polymerisatiounsreaktiounen, déi speziell Ufuerderunge fir d'Kontroll vun der Sauerstoff- oder Stickstoffgehalt erfuerderen, ass den Hannergrondvakuumbedarf nach méi héich.

(2) Ladungsreaktiounsmonomer oder gemëschte Gas aus Trägergas a Monomer

De Vakuumgrad ass 13-130 Pa. Fir Plasmapolymerisatioun, déi Aarbecht erfuerdert, mussen e passenden Duerchflusskontrollmodus an eng Duerchflussrate gewielt ginn, am Allgemengen 10,100 ml/min. Am Plasma ginn d'Monomermoleküle ioniséiert an duerch Bombardement vun energesche Partikelen dissoziéiert, wat zu aktive Partikelen wéi Ionen an aktive Genen féiert. Déi aktiv Partikelen, déi vum Plasma aktivéiert ginn, kënnen op der Grenzfläche vun der Gasphas an der Festphas enger Plasmapolymerisatioun ënnergoen. De Monomer ass d'Quell vum Virleefer fir d'Plasmapolymerisatioun, an den Input-Reaktiounsgas an de Monomer mussen eng gewësse Rengheet hunn.

(3) Auswiel vun der Anregungsstromversuergung

Plasma kann mat Hëllef vu Gläichstroum-, Héichfrequenz-, HF- oder Mikrowellenenergiequellen generéiert ginn, fir eng Plasmaëmfeld fir d'Polymerisatioun ze bidden. D'Auswiel vun der Energieversuergung gëtt op Basis vun den Ufuerderunge fir d'Struktur an d'Leeschtung vum Polymer bestëmmt.

(4) Auswiel vum Entladungsmodus

Fir Polymerufuerderungen kann d'Plasmapolymerisatioun zwou Entladungsmodi wielen: kontinuéierlech Entladung oder Pulsentladung.

(5) Auswiel vun den Entladungsparameteren

Bei der Duerchféierung vun enger Plasmapolymerisatioun mussen d'Entladungsparameter aus de Plasmaparameter, de Polymereegeschafte an de Strukturufuerderunge berécksiichtegt ginn. D'Gréisst vun der ugewandter Leeschtung während der Polymerisatioun gëtt vum Volumen vun der Vakuumkammer, der Elektrodengréisst, dem Monomerduerchflussrate a -struktur, der Polymerisatiounsrate, an der Polymerstruktur a -leistung bestëmmt. Zum Beispill, wann de Volumen vun der Reaktiounskammer 1L ass an RF-Plasmapolymerisatioun benotzt gëtt, läit d'Entladungsleistung am Beräich vun 10~30W. Ënner sou Bedingungen kann dat generéiert Plasma sech zesummesetzen, fir e dënne Film op der Uewerfläch vum Werkstéck ze bilden. D'Wuesstumsquote vum Plasmapolymerisatiounsfilm variéiert jee no Stroumversuergung, Monomertyp a -duerchflussrate, an de Prozessbedingungen. Am Allgemengen ass d'Wuesstumsquote 100nm/min~1µm/min.

(6) Parametermessung an der Plasmapolymerisatioun

D'Plasmaparameter an d'Prozessparameter, déi bei der Plasmapolymerisatioun gemoosse solle ginn, sinn: Entladungsspannung, Entladungsstroum, Entladungsfrequenz, Elektronetemperatur, Dicht, Reaktiounsgrupptyp a Konzentratioun, asw.

——Dësen Artikel gouf vu Guangdong Zhenhua Technology publizéiert, engerHiersteller vun optesche Beschichtungsmaschinnen.