Plazma birbaşa polimerləşmə prosesi
Plazma polimerləşmə prosesi həm daxili elektrod polimerləşmə avadanlığı, həm də xarici elektrod polimerləşmə avadanlığı üçün nisbətən sadədir, lakin Plazma polimerləşməsində parametr seçimi daha vacibdir, çünki parametrlər Plazma polimerləşmə zamanı polimer təbəqələrinin quruluşuna və performansına daha çox təsir göstərir.
Birbaşa plazma polimerləşməsi üçün əməliyyat addımları aşağıdakılardır:
(1) Tozsoranla təmizləmə
Vakuum şəraitində polimerləşmənin fon vakuumu 1,3 × 10-1Pa-ya qədər pompalanmalıdır. Oksigen və ya azot tərkibinin idarə olunması üçün xüsusi tələblər tələb edən polimerləşmə reaksiyaları üçün fon vakuumu tələbi daha da yüksəkdir.
(2) Yük reaksiyası monomeri və ya daşıyıcı qaz və monomerin qarışıq qazı
Vakuum dərəcəsi 13-130Pa-dır. İş tələb edən plazma polimerləşməsi üçün müvafiq axın idarəetmə rejimi və axın sürəti seçilməlidir, ümumiyyətlə 10.100 ml/dəq. Plazmada monomer molekulları enerjili hissəciklərin bombardmanı ilə ionlaşır və dissosiasiya olunur və nəticədə ionlar və aktiv genlər kimi aktiv hissəciklər əmələ gəlir. Plazma ilə aktivləşdirilmiş aktiv hissəciklər qaz fazası və bərk faza sərhədində plazma polimerləşməsinə məruz qala bilər. Monomer plazma polimerləşməsi üçün öncül mənbəyidir və giriş reaksiya qazı və monomeri müəyyən təmizliyə malik olmalıdır.
(3) Həyəcanlandırma enerji təchizatının seçilməsi
Plazma polimerləşmə üçün plazma mühiti təmin etmək məqsədilə DC, yüksək tezlikli, RF və ya mikrodalğalı enerji mənbələrindən istifadə etməklə yaradıla bilər. Enerji təchizatının seçimi polimerin strukturu və performansı üçün tələblərə əsasən müəyyən edilir.
(4) Boşaltma rejiminin seçimi
Polimer tələbləri üçün plazma polimerləşməsi iki boşalma rejimini seçə bilər: davamlı boşalma və ya impuls boşalması.
(5) Boşaltma parametrlərinin seçilməsi
Plazma polimerləşməsi aparılarkən, boşalma parametrləri plazma parametrlərindən, polimer xüsusiyyətlərindən və struktur tələblərindən nəzərə alınmalıdır. Polimerləşmə zamanı tətbiq olunan gücün böyüklüyü vakuum kamerasının həcmi, elektrod ölçüsü, monomer axın sürəti və quruluşu, polimerləşmə sürəti, polimer quruluşu və performansı ilə müəyyən edilir. Məsələn, reaksiya kamerasının həcmi 1L-dirsə və RF Plazma polimerləşməsi qəbul edilirsə, boşalma gücü 10~30 Vt arasında olacaq. Belə şəraitdə yaranan plazma iş parçasının səthində nazik bir təbəqə əmələ gətirmək üçün aqreqasiya edə bilər. Plazma polimerləşmə filminin böyümə sürəti enerji təchizatı, monomer növü və axın sürəti, eləcə də proses şərtlərindən asılı olaraq dəyişir. Ümumiyyətlə, böyümə sürəti 100 nm/dəq~1 um/dəq-dir.
(6) Plazma polimerləşməsində parametrlərin ölçülməsi
Plazma polimerləşməsində ölçüləcək plazma parametrləri və proses parametrlərinə aşağıdakılar daxildir: boşalma gərginliyi, boşalma cərəyanı, boşalma tezliyi, elektron temperaturu, sıxlıq, reaksiya qrupu növü və konsentrasiyası və s.
——Bu məqalə Guangdong Zhenhua Technology tərəfindən dərc ediliboptik örtük maşınları istehsalçısı.
Yayımlanma vaxtı: 05 may 2023