Proses polimerisasi langsung plasma

Proses polimerisasi langsung plasma

Proses polimerisasi plasma relatif prasaja kanggo peralatan polimerisasi elektroda internal lan peralatan polimerisasi elektroda eksternal, nanging pemilihan parameter luwih penting ing polimerisasi plasma, amarga parameter duwe pengaruh sing luwih gedhe marang struktur lan kinerja film polimer sajrone polimerisasi plasma.

Langkah-langkah operasi kanggo polimerisasi plasma langsung yaiku kaya ing ngisor iki:

(1) Nyedhot debu

Vakum latar mburi polimerisasi ing kondisi vakum kudu dipompa nganti 1,3 × 10-1 Pa. Kanggo reaksi polimerisasi sing mbutuhake syarat khusus kanggo ngontrol kandungan oksigen utawa nitrogen, syarat vakum latar mburi malah luwih dhuwur.

(2) Monomer reaksi muatan utawa gas campuran saka gas pembawa lan monomer

Derajat vakum yaiku 13-130Pa. Kanggo polimerisasi plasma sing mbutuhake kerja, mode kontrol aliran lan laju aliran sing cocog kudu dipilih, umume 10.100mL/menit. Ing plasma, molekul monomer diionisasi lan didisosiasi kanthi ngebom partikel energik, sing ngasilake partikel aktif kayata ion lan gen aktif. Partikel aktif sing diaktifake dening plasma bisa ngalami polimerisasi plasma ing antarmuka fase gas lan fase padat. Monomer minangka sumber prekursor kanggo polimerisasi plasma, lan reaksi input gas lan monomer kudu duwe kemurnian tartamtu.

(3) Pemilihan catu daya eksitasi

Plasma bisa diasilake nggunakake sumber daya DC, frekuensi dhuwur, RF, utawa gelombang mikro kanggo nyedhiyakake lingkungan plasma kanggo polimerisasi. Pemilihan catu daya ditemtokake adhedhasar syarat kanggo struktur lan kinerja polimer.

(4) Pemilihan mode debit

Kanggo syarat polimer, polimerisasi plasma bisa milih rong mode debit: debit terus-terusan utawa debit pulsa.

(5) Pemilihan parameter debit

Nalika nindakake polimerisasi Plasma, parameter debit kudu ditimbang saka parameter plasma, sifat polimer, lan syarat struktur. Gedhene daya sing ditrapake sajrone polimerisasi ditemtokake dening volume ruang vakum, ukuran elektroda, laju aliran lan struktur monomer, laju polimerisasi, lan struktur lan kinerja polimer. Contone, yen volume ruang reaksi yaiku 1L lan polimerisasi Plasma RF diadopsi, daya debit bakal ana ing kisaran 10 ~ 30W. Ing kahanan kasebut, plasma sing diasilake bisa nglumpuk kanggo mbentuk film tipis ing permukaan benda kerja. Tingkat pertumbuhan film polimerisasi Plasma beda-beda gumantung saka catu daya, jinis monomer lan laju aliran, lan kahanan proses. Umumé, tingkat pertumbuhan yaiku 100nm/min ~ 1um/min.

(6) Pangukuran parameter ing polimerisasi plasma

Parameter plasma lan parameter proses sing bakal diukur ing polimerisasi plasma kalebu: voltase debit, arus debit, frekuensi debit, suhu elektron, kapadhetan, jinis lan konsentrasi gugus reaksi, lan liya-liyane.

——Artikel iki dirilis dening Guangdong Zhenhua Technology, sawijiningprodusen mesin lapisan optik.