スパッタリングコーティング、特にマグネトロンスパッタリングコーティング技術の発展に伴い、現在ではあらゆる材料に対してイオン衝撃ターゲット膜を作製することが可能になっています。ターゲットはコーティングプロセス中にスパッタリングされるため、測定される膜の品質は重要な影響を及ぼします。したがって、ターゲット材料に対する要求もより厳しくなっています。ターゲット材料の選択においては、膜自体の用途を選択するだけでなく、以下の点も考慮する必要があります。
対象材料は、フィルム形成後、良好な機械的強度と化学的安定性を有する必要がある。
ターゲットと基板はしっかりと結合していなければなりません。そうでない場合は、基板と膜層が良好に結合していることを確認し、まずベース膜をスパッタリングしてから、必要な膜層を準備する必要があります。
反応として、膜材料にスパッタリングされた材料は、ガスと容易に反応して複合膜を生成する必要がある。
膜の性能要件を満たすことを前提として、ターゲット材料と基板の熱膨張係数の差をできるだけ小さくすることで、スパッタリング膜への熱応力の影響を最小限に抑える。
膜の使用目的および性能要件に応じて、対象材料は純度、不純物含有量、成分均一性、加工精度などの技術要件を満たさなければならない。
–この記事は以下によって公開されています真空コーティング機メーカー広東振華
投稿日時：2024年1月9日