Mit der zunehmenden Entwicklung von Sputterbeschichtungen, insbesondere der Magnetron-Sputtertechnologie, lassen sich heutzutage nahezu alle Materialien mittels Ionenbeschuss auf Targetfilme abscheiden. Da das Target während des Beschichtungsprozesses auf ein Substrat gesputtert wird, hat die Qualität des abgeschiedenen Films einen wesentlichen Einfluss. Daher sind die Anforderungen an das Targetmaterial entsprechend hoch. Bei der Auswahl des Targetmaterials sollten neben der Filmauswahl selbst auch folgende Aspekte berücksichtigt werden:
Das Zielmaterial sollte nach der Filmbildung eine gute mechanische Festigkeit und chemische Stabilität aufweisen;
Target und Substrat müssen fest miteinander verbunden sein, andernfalls sollte das Substrat eine gute Verbindung mit der Membranschicht aufweisen, indem zuerst ein Basisfilm aufgesputtert und anschließend die erforderliche Membranschicht hergestellt wird;
Als Reaktion muss das in das Membranmaterial gesputterte Material leicht mit dem Gas reagieren können, um einen Verbindungsfilm zu erzeugen.
Unter der Voraussetzung, dass die Leistungsanforderungen an die Membran erfüllt werden, ist der Unterschied zwischen dem Wärmeausdehnungskoeffizienten des Zielmaterials und des Substrats so gering wie möglich, um den Einfluss von thermischen Spannungen auf die gesputterte Membran zu minimieren.
Entsprechend den Nutzungs- und Leistungsanforderungen der Membran muss das Zielmaterial die Anforderungen an Reinheit, Verunreinigungsgehalt, Komponentenhomogenität, Bearbeitungsgenauigkeit und andere technische Aspekte erfüllen.
–Dieser Artikel wurde veröffentlicht vonHersteller von VakuumbeschichtungsmaschinenGuangdong Zhenhua
Veröffentlichungsdatum: 09.01.2024