Com o crescente desenvolvimento da deposição por pulverização catódica, especialmente a tecnologia de deposição por pulverização catódica magnetron, atualmente é possível preparar filmes de qualquer material por bombardeio iônico. Como o alvo é pulverizado durante o processo de revestimento em algum tipo de substrato, a qualidade do filme obtido tem um impacto significativo. Portanto, os requisitos para o material do alvo também são mais rigorosos. Na seleção do material do alvo, além da própria utilização do filme, também devem ser considerados os seguintes aspectos:
O material alvo deve apresentar boa resistência mecânica e estabilidade química após a formação do filme;
O alvo e o substrato devem estar firmemente combinados; caso contrário, deve-se utilizar um substrato que possua boa aderência à camada de membrana, primeiro depositando uma camada base por pulverização catódica e, em seguida, preparando a camada de membrana desejada;
Como a reação de pulverização catódica ocorre no material da membrana, este deve reagir facilmente com o gás para gerar um filme composto.
Partindo do pressuposto de que os requisitos de desempenho da membrana devem ser atendidos, a diferença entre o coeficiente de expansão térmica do material alvo e do substrato deve ser a menor possível, de forma a minimizar a influência da tensão térmica na membrana depositada por pulverização catódica.
De acordo com os requisitos de uso e desempenho da membrana, o material alvo deve atender aos requisitos técnicos de pureza, teor de impurezas, uniformidade dos componentes, precisão de usinagem e outros.
–Este artigo foi publicado porfabricante de máquinas de revestimento a vácuoGuangdongZhenhua
Data da publicação: 09/01/2024