Con el creciente desarrollo de la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica, especialmente la de pulverización catódica por magnetrón, actualmente se puede preparar una película objetivo mediante bombardeo iónico para cualquier material. Dado que el objetivo se pulveriza durante el proceso de recubrimiento sobre algún tipo de sustrato, la calidad de la película medida tiene un impacto importante; por lo tanto, los requisitos para el material objetivo son cada vez más estrictos. En la selección del material objetivo, además de la película en sí, se deben considerar los siguientes aspectos:
El material objetivo debe tener buena resistencia mecánica y estabilidad química después de la aplicación de la película;
El objetivo y el sustrato deben estar firmemente unidos, de lo contrario se debe tomar con el sustrato que tiene una buena unión de la capa de membrana, primero pulverizando una película base y luego preparando la capa de membrana requerida;
Como reacción de pulverización catódica sobre el material de la membrana, debe reaccionar fácilmente con el gas para generar una película compuesta.
Partiendo de la premisa de cumplir con los requisitos de rendimiento de la membrana, la diferencia entre el coeficiente de dilatación térmica del material objetivo y el sustrato es lo más pequeña posible, para minimizar la influencia de la tensión térmica sobre la membrana depositada por pulverización catódica.
Según los requisitos de uso y rendimiento de la membrana, el material objetivo debe cumplir con los requisitos de pureza, contenido de impurezas, uniformidad de componentes, precisión de mecanizado y otros requisitos técnicos.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Fecha de publicación: 9 de enero de 2024