Pagpili ug Klasipikasyon sa Target

Uban sa nagkadaghang pag-uswag sa sputtering coating, ilabina ang magnetron sputtering coating technology, sa pagkakaron, bisan unsang materyal mahimong maandam pinaagi sa ion bombardment target film, tungod kay ang target gi-sputter sa proseso sa pag-coat niini sa usa ka klase sa substrate, ang kalidad sa gisukod nga film adunay hinungdanon nga epekto, busa, ang mga kinahanglanon alang sa target nga materyal mas estrikto usab. Sa pagpili sa target nga materyal, dugang sa paggamit sa film mismo, kinahanglan usab nga tagdon ang mosunod nga mga isyu:

Ang target nga materyal kinahanglan adunay maayo nga mekanikal nga kusog ug kemikal nga kalig-on pagkahuman sa pelikula;

Ang target ug ang substrate kinahanglan nga hugot nga gihiusa, kung dili kinahanglan nga kuhaon kini uban sa substrate nga adunay maayong kombinasyon sa layer sa lamad, una nga isabwag ang base film ug dayon andamon ang gikinahanglan nga layer sa lamad;

Ingon usa ka reaksyon, ang materyal nga mogawas sa lamad kinahanglan nga dali nga mo-react sa gas aron makamugna og usa ka compound film.

Ubos sa premise sa pagtagbo sa mga kinahanglanon sa performance sa lamad, ang kalainan tali sa coefficient sa thermal expansion sa target nga materyal ug sa substrate gamay ra kutob sa mahimo, aron maminusan ang impluwensya sa thermal stress sa sputtered membrane.

Sumala sa mga kinahanglanon sa paggamit ug pasundayag sa lamad, ang target nga materyal kinahanglan nga makab-ot ang kaputli, sulud sa kahugawan, pagkaparehas sa sangkap, katukma sa machining ug uban pang teknikal nga mga kinahanglanon.

–Kini nga artikulo gipagawas nitiggama og vacuum coating machineGuangdong Zhenhua