スパッタリングコーティング、特にマグネトロンスパッタリングコーティング技術の発展に伴い、現在ではあらゆる材料に対してイオン衝撃によるターゲット膜を作製することが可能となっています。ターゲットは何らかの基板にコーティングする過程でスパッタリングされるため、測定される膜の品質が重要な影響を与えるため、ターゲット材料に対する要求もより厳しくなっています。ターゲット材料の選択においては、膜自体の用途に加えて、以下の点も考慮する必要があります。
対象材料は、成膜後に優れた機械的強度と化学的安定性を備えている必要があります。
ターゲットと基板はしっかりと結合している必要があります。そうでない場合は、基板の膜層との結合が良好であることを確認し、最初にベースフィルムをスパッタリングしてから、必要な膜層を準備する必要があります。
反応として、膜材料にスパッタリングすると、ガスと反応しやすくなり、複合膜が生成されます。
膜の性能要件を満たすという前提の下、ターゲット材料と基板の熱膨張係数の差を可能な限り小さくし、スパッタ膜への熱応力の影響を最小限に抑えます。
膜の用途および性能要件に応じて、対象材料は純度、不純物含有量、成分の均一性、加工精度などの技術要件を満たす必要があります。
–この記事は真空コーティング機メーカー広東振華
投稿日時: 2024年1月9日