आयन बीम सहायता प्राप्त निक्षेपण तकनीक आयन बीम इंजेक्शन और वाष्प निक्षेपण कोटिंग तकनीक है जिसे आयन सतह समग्र प्रसंस्करण तकनीक के साथ जोड़ा गया है। आयन इंजेक्टेड सामग्रियों के सतह संशोधन की प्रक्रिया में, चाहे अर्धचालक सामग्री हो या इंजीनियरिंग सामग्री, अक्सर यह वांछित होता है कि संशोधित परत की मोटाई आयन आरोपण की तुलना में बहुत अधिक हो, लेकिन आयन इंजेक्शन प्रक्रिया के लाभों को भी बनाए रखना चाहते हैं, जैसे कि संशोधित परत और शार्प इंटरफेस के बीच सब्सट्रेट, कमरे के तापमान पर वर्कपीस को संसाधित किया जा सकता है, और इसी तरह। इसलिए, कोटिंग तकनीक के साथ आयन आरोपण को मिलाकर, कोटिंग करते समय एक निश्चित ऊर्जा वाले आयनों को लगातार फिल्म और सब्सट्रेट के बीच इंटरफेस में इंजेक्ट किया जाता है, और इंटरफेसियल परमाणुओं को कैस्केड टकराव की मदद से मिलाया जाता है, जिससे फिल्म और सब्सट्रेट के बीच संबंध बल में सुधार करने के लिए प्रारंभिक इंटरफेस के पास एक परमाणु मिश्रण संक्रमण क्षेत्र बनता है। फिर, परमाणु मिश्रण क्षेत्र पर, आवश्यक मोटाई और गुणों वाली फिल्म आयन बीम की भागीदारी के साथ बढ़ती रहती है।
इसे आयन बीम असिस्टेड डिपोजिशन (आईबीईडी) कहा जाता है, जो आयन प्रत्यारोपण प्रक्रिया की विशेषताओं को बरकरार रखता है, जबकि सब्सट्रेट को एक पतली फिल्म सामग्री के साथ लेपित करने की अनुमति देता है, जो सब्सट्रेट से पूरी तरह से अलग है।
आयन बीम सहायता प्राप्त निक्षेपण के निम्नलिखित लाभ हैं।
(1) चूँकि आयन बीम सहायता प्राप्त जमाव गैस निर्वहन के बिना प्लाज्मा उत्पन्न करता है, इसलिए कोटिंग <10-2 Pa के दबाव पर की जा सकती है, जिससे गैस संदूषण कम हो जाता है।
(2) बुनियादी प्रक्रिया पैरामीटर (आयन ऊर्जा, आयन घनत्व) विद्युत हैं। आम तौर पर गैस प्रवाह और अन्य गैर-विद्युत मापदंडों को नियंत्रित करने की आवश्यकता नहीं होती है, आप आसानी से फिल्म परत के विकास को नियंत्रित कर सकते हैं, फिल्म की संरचना और संरचना को समायोजित कर सकते हैं, प्रक्रिया की पुनरावृत्ति सुनिश्चित करना आसान है।
(3) वर्कपीस की सतह को एक ऐसी फिल्म के साथ लेपित किया जा सकता है जो सब्सट्रेट से पूरी तरह से अलग है और मोटाई कम तापमान (<200 ℃) पर बमबारी आयनों की ऊर्जा द्वारा सीमित नहीं है। यह डोप्ड फंक्शनल फिल्मों, कोल्ड मशीन्ड प्रिसिजन मोल्ड्स और कम तापमान टेम्पर्ड स्ट्रक्चरल स्टील के सरफेस ट्रीटमेंट के लिए उपयुक्त है।
(4) यह कमरे के तापमान पर नियंत्रित एक गैर-संतुलन प्रक्रिया है। कमरे के तापमान पर नई कार्यात्मक फिल्में जैसे उच्च तापमान चरण, सबस्टेबल चरण, अनाकार मिश्र धातु आदि प्राप्त की जा सकती हैं।
आयन बीम सहायता प्राप्त निक्षेपण के नुकसान हैं।
(1) क्योंकि आयन बीम में प्रत्यक्ष विकिरण विशेषताएं होती हैं, इसलिए वर्कपीस की जटिल सतह आकृति से निपटना मुश्किल होता है
(2) आयन बीम स्ट्रीम के आकार की सीमा के कारण बड़े पैमाने और बड़े क्षेत्र के वर्कपीस से निपटना मुश्किल है।
(3) आयन बीम सहायता प्राप्त जमाव दर आमतौर पर 1nm/s के आसपास होती है, जो पतली फिल्म परतों की तैयारी के लिए उपयुक्त है, और बड़ी मात्रा में उत्पादों की चढ़ाना के लिए उपयुक्त नहीं है।
-यह लेख द्वारा जारी किया गया हैवैक्यूम कोटिंग मशीन निर्मातागुआंग्डोंग झेंहुआ
पोस्ट करने का समय: नवम्बर-16-2023