Ionisuihkuavusteinen pinnoitusteknologia on ionisuihkuinjektio- ja höyrypinnoitustekniikka yhdistettynä ionipintakomposiittien prosessointitekniikkaan. Ionisuihkutettujen materiaalien, olipa kyseessä puolijohdemateriaalit tai tekniset materiaalit, pinnan modifiointiprosessissa usein halutaan, että modifioidun kerroksen paksuus on paljon suurempi kuin ioni-istutuksella saatavan kerroksen paksuus, mutta samalla halutaan säilyttää ioni-injektioprosessin edut, kuten modifioidun kerroksen ja substraatin välinen terävä rajapinta, huoneenlämmössä käsiteltävä työkappale jne. Siksi yhdistämällä ioni-istutus pinnoitustekniikkaan tietyn energian omaavia ioneja injektoidaan jatkuvasti kalvon ja substraatin väliseen rajapintaan pinnoituksen aikana, ja rajapinnan atomit sekoittuvat kaskaditörmäysten avulla, muodostaen atomien sekoittumissiirtymävyöhykkeen lähelle alkuperäistä rajapintaa, mikä parantaa kalvon ja substraatin välistä sidosvoimaa. Sitten atomien sekoitusvyöhykkeellä vaaditun paksuuden ja ominaisuuksien omaava kalvo kasvaa edelleen ionisuihkun avulla.
Tätä kutsutaan ionisuihkuavusteiseksi laskeumaksi (IBED), jossa ioni-istutusprosessin ominaisuudet säilyvät, mutta substraatti voidaan päällystää ohuella kalvomateriaalilla, joka on täysin erilainen kuin substraatti.
Ionisuihkuavusteisella laskeumalla on seuraavat edut.
(1) Koska ionisuihkuavusteinen pinnoitus tuottaa plasmaa ilman kaasupurkausta, pinnoitus voidaan suorittaa alle 10⁻² Pa:n paineessa, mikä vähentää kaasukontaminaatiota.
(2) Perusprosessin parametrit (ionienergia, ionitiheys) ovat sähköisiä. Yleensä ei tarvitse säätää kaasun virtausta tai muita ei-sähköisiä parametreja, vaan kalvokerroksen kasvua, kalvon koostumusta ja rakennetta voidaan helposti säätää, mikä helpottaa prosessin toistettavuuden varmistamista.
(3) Työkappaleen pinta voidaan päällystää kalvolla, joka on täysin erilainen kuin alusta, eikä paksuutta rajoita pommitusionien energia matalassa lämpötilassa (<200 ℃). Se soveltuu seostettujen funktionaalisten kalvojen, kylmäkoneistettujen tarkkuusmuottien ja matalassa lämpötilassa karkaistujen rakenneterästen pintakäsittelyyn.
(4) Se on huoneenlämmössä kontrolloitu epätasapainoprosessi. Huoneenlämmössä voidaan saada aikaan uusia funktionaalisia kalvoja, kuten korkean lämpötilan faaseja, epästabiileja faaseja, amorfisia seoksia jne.
Ionisuihkuavusteisen laskeuman haittoja ovat.
(1) Koska ionisuihkulla on suoran säteilyn ominaisuuksia, työkappaleen monimutkaisten pinnanmuotojen käsittely on vaikeaa.
(2) Suurikokoisten ja -pinta-alaltaan suurten työkappaleiden käsittely on vaikeaa ionisuihkuvirran koon rajoituksen vuoksi.
(3) Ionisuihkulla avustettu pinnoitusnopeus on yleensä noin 1 nm/s, mikä sopii ohuiden kalvokerrosten valmistukseen, mutta ei suurten tuotemäärien pinnoitukseen.
–Tämä artikkeli on julkaistutyhjiöpinnoituskoneiden valmistajaGuangdong Zhenhua
Julkaisun aika: 16.11.2023