Có hai chế độ chính của phương pháp lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion, một là lai động; chế độ còn lại là lai tĩnh. Chế độ thứ nhất đề cập đến việc trong quá trình phát triển màng luôn đi kèm với một năng lượng và dòng điện chùm ion nhất định để bắn phá màng; chế độ thứ hai là lắng đọng trước trên bề mặt chất nền một lớp màng có độ dày nhỏ hơn vài nanomet, sau đó bắn phá ion động, và có thể lặp lại nhiều lần để làm tăng độ dày của lớp màng.
Năng lượng chùm ion được chọn cho quá trình lắng đọng màng mỏng hỗ trợ bằng chùm ion nằm trong khoảng từ 30 eV đến 100 keV. Phạm vi năng lượng được chọn phụ thuộc vào loại ứng dụng mà màng được tổng hợp. Ví dụ, việc chế tạo màng chống ăn mòn, chống mài mòn cơ học, lớp phủ trang trí và các màng mỏng khác nên chọn năng lượng bắn phá cao hơn. Các thí nghiệm cho thấy rằng, chẳng hạn như khi chọn năng lượng bắn phá chùm ion từ 20 đến 40 keV, vật liệu nền và bản thân màng sẽ không bị ảnh hưởng đến hiệu suất và khả năng sử dụng. Trong việc chế tạo màng mỏng cho các thiết bị quang học và điện tử, nên chọn phương pháp lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion năng lượng thấp hơn, điều này không chỉ làm giảm sự hấp thụ ánh sáng và tránh sự hình thành các khuyết tật kích hoạt điện, mà còn tạo điều kiện thuận lợi cho sự hình thành cấu trúc trạng thái ổn định của màng. Các nghiên cứu đã chỉ ra rằng có thể thu được màng có tính chất tuyệt vời bằng cách chọn năng lượng ion thấp hơn 500 eV.
–Bài viết này được phát hành bởiNhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa
Thời gian đăng bài: 11/03/2024