Ụdị ntinye aka nke ion beam na nhọrọ ike ya

E nwere ụzọ abụọ bụ isi nke ion beam-assisted deposition, otu bụ dynamic hybrid; nke ọzọ bụ static hybrid. Nke mbụ na-ezo aka na fim ahụ n'usoro uto na-esochi mgbe niile na ike na ọkụ ọkụ nke ion bombardment na fim; nke ikpeazụ a na-etinye tupu oge eruo n'elu substrate ahụ, otu oyi akwa nke na-erughị nanomita ole na ole ọkpụrụkpụ nke oyi akwa fim ahụ, wee tinye ion dynamic bombardment, enwere ike imeghachi ya ọtụtụ ugboro na uto nke oyi akwa fim ahụ.

Ike ion nke a họọrọ maka itinye ihe mkpuchi ion nke ihe nkiri dị gịrịgịrị dị n'etiti 30 eV ruo 100 keV. Oke ike ahọpụtara dabere n'ụdị ngwa e ji emepụta ihe nkiri ahụ. Dịka ọmụmaatụ, nkwadebe nke nchedo nchara, iyi mgbochi igwe, mkpuchi mma na ihe nkiri ndị ọzọ dị gịrịgịrị kwesịrị ịhọrọ ike bọmbụ dị elu. Nnwale na-egosi na, dịka nhọrọ nke ike 20 ruo 40 keV nke bọmbụ ion nke ihe mkpuchi ahụ, ihe substrate na ihe nkiri ahụ n'onwe ya agaghị emetụta arụmọrụ na ojiji nke mmebi ahụ. N'ịkwadebe ihe nkiri dị gịrịgịrị maka ngwaọrụ anya na eletrọnịkị, a ga-ahọrọ obere ihe mkpuchi ion nke enyere aka na ihe mkpuchi ahụ, nke na-ebelata naanị mmịpụta ìhè ma na-ezere ịmepụta ntụpọ ndị a na-arụ ọrụ na ọkụ eletrik, kamakwa ọ na-eme ka nhazi nke ọnọdụ kwụsiri ike nke akpụkpọ ahụ dị mfe. Ọmụmụ ihe egosila na enwere ike nweta ihe nkiri nwere ihe onwunwe dị mma site na ịhọrọ ike ion dị ala karịa 500 eV.

–E bipụtara akụkọ a site n'aka onyeigwe mkpuchi igwe emeputa ihe mkpuchiGuangdong Zhenhua