Існує два основних режими іонно-променевого осадження: динамічний гібридний та статичний гібридний. Перший стосується плівки в процесі росту, який завжди супроводжується певною енергією та струмом пучка іонного бомбардування та плівки; другий передбачає попередньо нанесення на поверхню підкладки шару плівки товщиною менше кількох нанометрів, а потім динамічне іонне бомбардування може повторюватися багато разів, що дозволяє вирощувати плівку.
Енергії іонного пучка, обрані для іонно-променевого осадження тонких плівок, знаходяться в діапазоні від 30 еВ до 100 кеВ. Вибраний діапазон енергії залежить від типу застосування, для якого синтезується плівка. Наприклад, для приготування антикорозійного захисту, антимеханічного зносу, декоративних покриттів та інших тонких плівок слід вибирати вищу енергію бомбардування. Експерименти показують, що, наприклад, при виборі енергії іонного пучка від 20 до 40 кеВ, матеріал підкладки та сама плівка не впливатимуть на продуктивність та використання пошкоджень. При виготовленні тонких плівок для оптичних та електронних пристроїв слід вибирати іонно-променеве осадження з нижчою енергією, що не тільки зменшує адсорбцію світла та запобігає утворенню електрично активованих дефектів, але й сприяє формуванню стаціонарної структури мембрани. Дослідження показали, що плівки з чудовими властивостями можна отримати, вибираючи іонні енергії нижче 500 еВ.
–Цю статтю опубліковановиробник вакуумних машин для покриттяГуандун Чженьхуа
Час публікації: 11 березня 2024 р.