1. Швидкість випаровування впливатиме на властивості випарованого покриття
Швидкість випаровування має великий вплив на осаджену плівку. Оскільки структура покриття, утворена при низькій швидкості осадження, є пухкою та легко утворює великі частинки, дуже безпечно вибирати вищу швидкість випаровування, щоб забезпечити компактність структури покриття. Коли тиск залишкового газу у вакуумній камері постійний, швидкість бомбардування підкладки є постійною величиною. Отже, після вибору вищої швидкості осадження кількість залишкового газу, що міститься в осадженій плівці, зменшиться, тим самим зменшуючи хімічну реакцію між молекулами залишкового газу та частинками випарованої плівки. Таким чином, чистоту осадженої плівки можна покращити. Слід зазначити, що якщо швидкість осадження занадто висока, це може збільшити внутрішнє напруження плівки, збільшити кількість дефектів у плівці та навіть призвести до її розриву. Зокрема, в процесі реактивного випаровування, щоб повністю зреагувати з частинками матеріалу випаровуваної плівки, можна вибрати нижчу швидкість осадження. Звичайно, різні матеріали вибирають різні швидкості випаровування. Як практичний приклад – осадження світловідбивної плівки. Якщо товщина плівки становить 600×10⁻⁶ см, а час випаровування – 3 с, то коефіцієнт відбиття становить 93%. Однак, якщо швидкість випаровування сповільнюється за тієї ж товщини, то для завершення осадження плівки потрібно 10 хвилин. При цьому товщина плівки залишається незмінною. Однак коефіцієнт відбиття падає до 68%.
2. Температура основи впливатиме на випаровування покриття
Температура підкладки має великий вплив на випаровуване покриття. Залишкові молекули газу, адсорбовані на поверхні підкладки при високій температурі, легко видаляються. Особливо важливим є видалення молекул водяної пари. Більше того, за вищих температур не тільки легко сприяти переходу від фізичної адсорбції до хімічної, тим самим збільшуючи силу зв'язку між частинками. Крім того, це також може зменшити різницю між температурою перекристалізації молекул пари та температурою підкладки, тим самим зменшуючи або усуваючи внутрішню напругу на межі розділу плівка-плівка. Крім того, оскільки температура підкладки пов'язана з кристалічним станом плівки, часто легко утворювати аморфні або мікрокристалічні покриття за умови низької температури підкладки або відсутності нагрівання. Навпаки, за високої температури легко утворювати кристалічне покриття. Підвищення температури підкладки також сприяє покращенню механічних властивостей покриття. Звичайно, температура підкладки не повинна бути занадто високою, щоб запобігти випаровуванню покриття.
3. Залишковий тиск газу у вакуумній камері впливатиме на властивості плівки.
Тиск залишкового газу у вакуумній камері має великий вплив на роботу мембрани. Молекули залишкового газу під занадто високим тиском не тільки легко стикаються з частинками, що випаровуються, що зменшує кінетичну енергію тіла на підкладці та впливає на адгезію плівки. Крім того, занадто високий тиск залишкового газу серйозно впливає на чистоту плівки та знижує характеристики покриття.
4. Вплив температури випаровування на випаровуване покриття
Вплив температури випаровування на характеристики мембрани проявляється зміною швидкості випаровування з температурою. Коли температура випаровування висока, теплота випаровування зменшується. Якщо матеріал мембрани випаровується вище температури випаровування, навіть незначна зміна температури може призвести до різкої зміни швидкості випаровування матеріалу мембрани. Тому дуже важливо точно контролювати температуру випаровування під час нанесення плівки, щоб уникнути великого градієнта температури при нагріванні джерела випаровування. Для плівкового матеріалу, який легко сублімувати, також дуже важливо вибрати сам матеріал як нагрівач для випаровування та інших заходів.
5. Стан очищення основи та камери для покриття впливатиме на характеристики покриття.
Не можна ігнорувати вплив чистоти підкладки та камери для нанесення покриття на характеристики покриття. Це не тільки серйозно впливає на чистоту нанесеної плівки, але й зменшує її адгезію. Тому очищення підкладки, очищення вакуумної камери для нанесення покриття та пов'язаних з нею компонентів (таких як каркас підкладки) та дегазація поверхні є невід'ємними процесами у процесі вакуумного нанесення покриття.
Час публікації: 28 лютого 2023 р.