1. Kadar penyejatan akan memberi kesan kepada sifat salutan yang tersejat
Kadar penyejatan mempunyai pengaruh yang besar terhadap filem yang termendap. Oleh kerana struktur salutan yang dibentuk oleh kadar pemendapan yang rendah adalah longgar dan mudah menghasilkan pemendapan zarah yang besar, adalah sangat selamat untuk memilih kadar penyejatan yang lebih tinggi untuk memastikan kekompakan struktur salutan. Apabila tekanan gas sisa dalam ruang vakum adalah malar, kadar pengeboman substrat adalah nilai yang malar. Oleh itu, gas sisa yang terkandung dalam filem yang termendap selepas memilih kadar pemendapan yang lebih tinggi akan dikurangkan, sekali gus mengurangkan tindak balas kimia antara molekul gas sisa dan zarah filem yang tersejat. Oleh itu, ketulenan filem yang termendap dapat ditingkatkan. Perlu diingatkan bahawa jika kadar pemendapan terlalu cepat, ia boleh meningkatkan tekanan dalaman filem, ia akan meningkatkan kecacatan dalam filem, dan juga menyebabkan filem pecah. Khususnya, dalam proses penyaduran penyejatan reaktif, untuk menjadikan gas tindak balas bertindak balas sepenuhnya dengan zarah bahan filem penyejatan, anda boleh memilih kadar pemendapan yang lebih rendah. Sudah tentu, bahan yang berbeza memilih kadar penyejatan yang berbeza. Sebagai contoh praktikal– pemendapan filem pantulan. Jika ketebalan filem ialah 600×10-8cm dan masa penyejatan ialah 3s, kebolehpantulan ialah 93%. Walau bagaimanapun, jika kadar penyejatan diperlahankan di bawah keadaan ketebalan yang sama, ia mengambil masa 10 minit untuk melengkapkan pemendapan filem. Pada masa ini, ketebalan filem adalah sama. Walau bagaimanapun, kebolehpantulan telah menurun kepada 68%.
2. Suhu substrat akan memberi kesan kepada salutan penyejatan
Suhu substrat mempunyai pengaruh yang besar terhadap salutan penyejatan. Molekul gas sisa yang terserap pada permukaan substrat pada suhu substrat yang tinggi mudah disingkirkan. Terutamanya penyingkiran molekul wap air adalah lebih penting. Tambahan pula, pada suhu yang lebih tinggi, bukan sahaja mudah untuk menggalakkan transformasi daripada penjerapan fizikal kepada penjerapan kimia, justeru meningkatkan daya pengikatan antara zarah. Selain itu, ia juga boleh mengurangkan perbezaan antara suhu penghabluran semula molekul wap dan suhu substrat, justeru mengurangkan atau menghapuskan tekanan dalaman pada antara muka berasaskan filem. Di samping itu, kerana suhu substrat berkaitan dengan keadaan kristal filem, ia selalunya mudah untuk membentuk salutan amorfus atau mikrokristalin di bawah keadaan suhu substrat yang rendah atau tiada pemanasan. Sebaliknya, apabila suhu tinggi, ia mudah untuk membentuk salutan kristal. Meningkatkan suhu substrat juga kondusif untuk meningkatkan sifat mekanikal salutan. Sudah tentu, suhu substrat tidak boleh terlalu tinggi untuk mengelakkan penyejatan salutan.
3. Tekanan gas sisa dalam ruang vakum akan memberi kesan kepada sifat filem
Tekanan gas sisa dalam ruang vakum mempunyai pengaruh yang besar terhadap prestasi membran. Molekul gas sisa dengan tekanan yang terlalu tinggi bukan sahaja mudah bertembung dengan zarah yang tersejat, yang akan mengurangkan tenaga kinetik orang di atas substrat dan menjejaskan lekatan filem. Di samping itu, tekanan gas sisa yang terlalu tinggi akan menjejaskan ketulenan filem dan mengurangkan prestasi salutan.
4. Kesan suhu penyejatan pada salutan penyejatan
Kesan suhu penyejatan terhadap prestasi membran ditunjukkan oleh perubahan kadar penyejatan dengan suhu. Apabila suhu penyejatan tinggi, haba pengewapan akan berkurangan. Jika bahan membran tersejat melebihi suhu penyejatan, walaupun sedikit perubahan suhu boleh menyebabkan perubahan mendadak dalam kadar penyejatan bahan membran. Oleh itu, adalah sangat penting untuk mengawal suhu penyejatan dengan tepat semasa pemendapan filem untuk mengelakkan kecerunan suhu yang besar apabila sumber penyejatan dipanaskan. Bagi bahan filem yang mudah disublimasikan, adalah juga sangat penting untuk memilih bahan itu sendiri sebagai pemanas untuk penyejatan dan langkah-langkah lain.
5. Keadaan pembersihan substrat dan ruang salutan akan memberi kesan kepada prestasi salutan
Kesan kebersihan substrat dan ruang salutan terhadap prestasi salutan tidak boleh diabaikan. Ia bukan sahaja akan menjejaskan ketulenan filem yang termendap, tetapi juga mengurangkan lekatan filem. Oleh itu, penulenan substrat, rawatan pembersihan ruang salutan vakum dan komponen berkaitannya (seperti bingkai substrat) dan penyahgas permukaan adalah semua proses yang sangat diperlukan dalam proses salutan vakum.
Masa siaran: 28 Feb-2023