گۇاڭدۇڭ جېنخۇا تېخنىكا چەكلىك شىركىتىگە خۇش كەپسىز.
يەككە_بايراق

پلازما كۈچەيتىلگەن خىمىيىلىك پار چۆكمىسى 1-باب

ماقالە مەنبەسى: جېنخۇا چاڭ-توزان سۈمۈرگۈچ
ئوقۇلدى: 10
نەشر قىلىنغان ۋاقتى: 24-04-18

خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش (CVD). نامىدىن كۆرۈۋېلىشقا بولىدۇكى، ئۇ گاز شەكىللىك ئالدىنقى رېئاكسىيەچىلەرنى ئىشلىتىپ ئاتوم ۋە مولېكۇلا ئارا خىمىيىلىك رېئاكسىيە ئارقىلىق قاتتىق پەردىلەرنى ھاسىل قىلىدىغان بىر تېخنىكا. PVD دىن پەرقلىق ھالدا، CVD جەريانى كۆپىنچە يۇقىرى بېسىملىق (تۆۋەن ۋاكۇئۇم) مۇھىتتا ئېلىپ بېرىلىدۇ، يۇقىرى بېسىم ئاساسلىقى پەردىنىڭ چۆكۈش سۈرئىتىنى ئاشۇرۇشقا ئىشلىتىلىدۇ. خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش پلازما چۆكۈش جەريانىغا قاتناشقان-قاتناشمىغانلىقىغا ئاساسەن ئادەتتىكى CVD (ئىسسىقلىق CVD دەپمۇ ئاتىلىدۇ) ۋە پلازما كۈچەيتىلگەن خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش (پلازما كۈچەيتىلگەن خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش. PECVD) دەپ ئايرىلىدۇ. بۇ بۆلۈم PECVD جەريانى ۋە كۆپ ئىشلىتىلىدىغان PECVD ئۈسكۈنىلىرى ۋە خىزمەت پىرىنسىپىنى ئۆز ئىچىگە ئالغان PECVD تېخنىكىسىغا مەركەزلەشكەن.

پلازما كۈچەيتىلگەن خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش ئۇسۇلى نېپىز پەردە خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش تېخنىكىسى بولۇپ، تۆۋەن بېسىملىق خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش جەريانىدا چۆكۈش جەريانىغا تەسىر كۆرسىتىش ئۈچۈن پارقىراقلىق چىقىرىش پلازمىسىدىن پايدىلىنىدۇ. بۇ مەنىدىن ئېيتقاندا، ئەنئەنىۋى CVD تېخنىكىسى گاز ھالىتىدىكى ماددىلار بىلەن نېپىز پەردىلەرنىڭ چۆكۈش جەريانى ئوتتۇرىسىدىكى خىمىيىلىك رېئاكسىيەنى ئەمەلگە ئاشۇرۇش ئۈچۈن يۇقىرى ئاساسىي تېمپېراتۇرىغا تايىنىدۇ، شۇڭا ئۇنى ئىسسىقلىق CVD تېخنىكىسى دەپ ئاتاشقا بولىدۇ.

PECVD ئۈسكۈنىسىدە، ئىشلەۋاتقان گاز بېسىمى تەخمىنەن 5 ~ 500 Pa بولۇپ، ئېلېكترون ۋە ئىئونلارنىڭ زىچلىقى 109 ~ 1012 / cm3 غا يېتىدۇ، ئېلېكترونلارنىڭ ئوتتۇرىچە ئېنېرگىيەسى بولسا 1 ~ 10 eV غا يېتىدۇ. PECVD ئۇسۇلىنى باشقا CVD ئۇسۇللىرىدىن پەرقلەندۈرىدىغان نەرسە شۇكى، پلازما تەركىبىدە نۇرغۇن يۇقىرى ئېنېرگىيەلىك ئېلېكترونلار بار بولۇپ، ئۇلار خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش جەريانى ئۈچۈن زۆرۈر بولغان ئاكتىپلاشتۇرۇش ئېنېرگىيەسى بىلەن تەمىنلەيدۇ. ئېلېكترونلار ۋە گاز باسقۇچلۇق مولېكۇلالارنىڭ سوقۇلۇشى گاز مولېكۇلاسىنىڭ پارچىلىنىشى، خېموسىنتېزى، قوزغىلىشى ۋە ئىئونلىشىش جەريانلىرىنى ئىلگىرى سۈرۈپ، يۇقىرى ئاكتىپلىقتىكى خىمىيىلىك گۇرۇپپىلارنى ھاسىل قىلىدۇ، شۇڭا CVD نېپىز پەردە چۆكۈشنىڭ تېمپېراتۇرا دائىرىسىنى زور دەرىجىدە ئازايتىپ، دەسلەپتە يۇقىرى تېمپېراتۇرىدا ئېلىپ بېرىلىشى تەلەپ قىلىنغان CVD جەريانىنى تۆۋەن تېمپېراتۇرىدا ئەمەلگە ئاشۇرۇشقا شارائىت ھازىرلايدۇ. تۆۋەن تېمپېراتۇرىلىق نېپىز پەردە چۆكۈشنىڭ ئەۋزەللىكى شۇكى، ئۇ پەردە بىلەن ئاساسىي قەۋەت ئوتتۇرىسىدىكى كېرەكسىز تارقىلىش ۋە خىمىيىلىك رېئاكسىيە، پەردە ياكى ئاساسىي قەۋەت ماتېرىيالىنىڭ قۇرۇلما ئۆزگىرىشى ۋە بۇزۇلۇشى، ھەمدە پەردە بىلەن ئاساسىي قەۋەتتىكى چوڭ ئىسسىقلىق بېسىمىنىڭ ئالدىنى ئالالايدۇ.

– بۇ ماقالە نەشر قىلغۇچى تەرىپىدىن تارقىتىلدىۋاكۇئۇم قاپلاش ماشىنىسى ئىشلەپچىقارغۇچىگۇاڭدۇڭ جېنخۇا


ئېلان قىلىنغان ۋاقىت: 2024-يىلى 4-ئاينىڭ 18-كۈنى