Fa'aputuga o le Ausa Fa'akemikolo Fa'aleleia i le Plasma Mataupu 1

Fa'aputuga Ausa Kemikolo (CVD). E pei ona ta'u mai e le igoa, o se metotia e fa'aaogaina ai mea e fa'atupu ai le kesi e fa'atupu ai ni ata mafiafia e ala i ni tali fa'akemikolo atomika ma le va o molekula. E le pei o le PVD, o le faiga CVD e masani ona faia i se siosiomaga maualuga le mamafa (maualalo le vacuum), ma o le mamafa maualuga e fa'aaogaina muamua e fa'ateleina ai le fua faatatau o le fa'aputuga o le ata. E mafai ona vaevaeina le fa'aputuga ausa kemikolo i le CVD lautele (e ta'ua fo'i o le CVD vevela) ma le fa'aputuga ausa kemikolo fa'amalosia e le plasma (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. PECVD) e tusa ai ma le a'afia o le plasma i le faiga o le fa'aputuga. O lenei vaega e taula'i i tekinolosi PECVD e aofia ai le faiga PECVD ma meafaigaluega PECVD e masani ona fa'aaogaina ma le mataupu fa'atino.

O le fa'aputuga o le ausa kemikolo e fa'aleleia atili ai le plasma o se metotia fa'aputuga o le ausa kemikolo e fa'aaogaina ai le plasma fa'amumu e fa'atino ai se aafiaga i le fa'agasologa o le fa'aputuga a'o faia le fa'agasologa o le fa'aputuga o le ausa kemikolo maualalo le mamafa. I lenei tulaga, o le tekinolosi CVD masani e fa'alagolago i le vevela maualuga o le substrate e fa'atino ai le tali atu o kemikolo i le va o mea o le kesi ma le fa'aputuga o ata manifinifi, ma o lea e mafai ai ona ta'ua o le tekinolosi CVD fa'avevela.

I le masini PECVD, o le mamafa o le kesi galue e tusa ma le 5~500 Pa, ma e mafai ona oʻo atu le mafiafia o eletise ma ions i le 109~1012/cm3, ae o le averesi o le malosi o eletise e mafai ona oʻo atu i le 1~10 eV. O le mea e ese ai le metotia PECVD mai isi metotia CVD o le plasma o loʻo i ai le tele o eletise malolosi, lea e mafai ona maua ai le malosi faʻagaoioia e manaʻomia mo le faʻagasologa o le faʻaputuina o le ausa kemikolo. O le fetoʻai o eletise ma molelaʻau kesi e mafai ona faʻalauteleina ai le faʻaleagaina, chemosynthesis, excitation ma le ionization o molelaʻau kesi, ma faʻatupuina ai ni vaega kemikolo e matua tali atu, ma faʻaitiitia ai le vevela o le CVD thin film deposition, ma mafai ai ona faʻatinoina le faʻagasologa o le CVD, lea e manaʻomia muamua ona faia i le vevela maualuga, i le vevela maualalo. O le lelei o le faʻaputuina o le low temperature thin film deposition o le mafai lea ona ʻalofia le sosolo e le manaʻomia ma le tali atu o kemikolo i le va o le ata tifaga ma le substrate, suiga o le fausaga ma le faʻaleagaina o le ata tifaga poʻo le substrate material, ma le tele o faʻalavelave faʻavevela i le ata tifaga ma le substrate.

–O lenei tusiga ua fa'asalalauina egaosi oloa masini ufiufi vacuumGuangdong Zhenhua