پلازما كۈچەيتىلگەن خىمىيىلىك ھور چۆكۈش 1-باپ

خىمىيىلىك ھور چۆكمىسى (CVD). ئىسمىدىنلا مەلۇم بولغىنىدەك ، ئۇ گازلىق ئالدى رېئاكتوردىن پايدىلىنىپ ، ئاتوم ۋە ئارىلىقتىكى خىمىيىلىك رېئاكسىيە ئارقىلىق قاتتىق فىلىم ھاسىل قىلىدىغان تېخنىكا. PVD غا ئوخشىمايدىغىنى ، CVD جەريانى كۆپىنچە يۇقىرى بېسىم (تۆۋەن ۋاكۇئۇم) مۇھىتىدا ئېلىپ بېرىلىدۇ ، يۇقىرى بېسىم ئاساسلىقى فىلىمنىڭ چۆكۈش نىسبىتىنى ئاشۇرۇشقا ئىشلىتىلىدۇ. خىمىيىلىك پارنىڭ چۆكۈپ كېتىشى پلازمانىڭ چۆكۈش جەريانىغا قاتناشقان-قاتناشمىغانلىقىغا ئاساسەن ئادەتتىكى CVD (ئىسسىقلىق CVD دەپمۇ ئاتىلىدۇ) ۋە پلازما كۈچەيتىلگەن خىمىيىلىك ھور چۆكمىسى (پلازما كۈچەيتىلگەن خىمىيىلىك ھور چۆكمىسى. PECVD) غا ئايرىلىدۇ. بۇ بۆلەكتە PECVD تېخنىكىسى ۋە كۆپ ئىشلىتىلىدىغان PECVD ئۈسكۈنىلىرى ۋە خىزمەت پرىنسىپى قاتارلىق PECVD تېخنىكىسى ئاساس قىلىنغان.

پلازما كۈچەيتىلگەن خىمىيىلىك ھورنىڭ چۆكۈشى نېپىز پەردە خىمىيىلىك پارنىڭ چۆكۈش تېخنىكىسى بولۇپ ، تۆۋەن بېسىملىق خىمىيىلىك ھور چۆكۈش جەريانى ئېلىپ بېرىلىۋاتقاندا ، پارقىراق قويۇپ بېرىش پلازمىسىدىن پايدىلىنىپ چۆكمە جەريانىغا تەسىر كۆرسىتىدۇ. بۇ مەنىدىن ئېيتقاندا ، ئادەتتىكى CVD تېخنىكىسى تېخىمۇ يۇقىرى يەر ئاستى تېمپېراتۇرىسىغا تايىنىپ ، گاز باسقۇچىدىكى ماددىلار بىلەن نېپىز پەردىلەرنىڭ چۆكۈپ كېتىشى ئوتتۇرىسىدىكى خىمىيىلىك رېئاكسىيەنى ھېس قىلىدۇ ، شۇڭا ئىسسىقلىق CVD تېخنىكىسى دېيىشكە بولىدۇ.

PECVD ئۈسكۈنىسىدە ، ئىشلەيدىغان گاز بېسىمى تەخمىنەن 5 ~ 500 Pa ئەتراپىدا ، ئېلېكترون ۋە ئىئوننىڭ زىچلىقى 109 ~ 1012 / cm3 كە يېتىدۇ ، ئېلېكترونلارنىڭ ئوتتۇرىچە ئېنېرگىيىسى 1 ~ 10 eV غا يېتىدۇ. PECVD ئۇسۇلىنى باشقا CVD ئۇسۇللىرىدىن پەرقلەندۈرىدىغىنى شۇكى ، پلازما تەركىبىدە كۆپ مىقداردا يۇقىرى ئېنېرگىيەلىك ئېلېكترون بار بولۇپ ، ئۇ خىمىيىلىك پارنىڭ چۆكۈش جەريانىغا كېرەكلىك ئاكتىپلاش ئېنېرگىيىسى بىلەن تەمىنلەيدۇ. ئېلېكترون ۋە گاز باسقۇچىدىكى مولېكۇلالارنىڭ سوقۇلۇشى تەبىئىي گاز مولېكۇلىلىرىنىڭ پارچىلىنىشى ، خىمىيىلىك بىرىكتۈرۈلۈشى ، ھاياجانلىنىش ۋە ئىئونلاشتۇرۇش جەريانىنى ئىلگىرى سۈرۈپ ، يۇقىرى رېئاكسىيىلىك خىمىيىلىك گۇرۇپپىلارنى ھاسىل قىلىدۇ ، شۇڭا CVD نېپىز پەردە چۆكمىسىنىڭ تېمپېراتۇرا دائىرىسىنى كۆرۈنەرلىك تۆۋەنلىتىدۇ ، بۇ ئەسلىدە يۇقىرى تېمپېراتۇرىدا ئېلىپ بېرىلىشى كېرەك بولغان CVD جەريانىنى ئەمەلگە ئاشۇرالايدۇ. تۆۋەن تېمپېراتۇرا نېپىز پەردە چۆكۈشنىڭ ئەۋزەللىكى شۇكى ، ئۇ فىلىم بىلەن ئاستىرتتىن ئارىسىدىكى زۆرۈر بولمىغان تارقىلىش ۋە خىمىيىلىك رېئاكسىيە ، قۇرۇلما ئۆزگىرىشى ۋە فىلىم ياكى ئاستى ماتېرىيالنىڭ ناچارلىشىشى ۋە فىلىم ۋە ئاستىرتتىكى چوڭ ئىسسىقلىق بېسىمىدىن ساقلىنالايدۇ.

–بۇ ماقالە ئېلان قىلىندىۋاكۇئۇم سىرلاش ماشىنىسى ئىشلەپچىقارغۇچىگۇاڭدۇڭ جېنخۇا