Химик пар парламенты (CVD). Исеменнән күренгәнчә, ул атом һәм молекуляр химик реакцияләр ярдәмендә каты фильмнар чыгару өчен газлы прекурсор реакторларын куллана торган техника. ПВДдан аермалы буларак, CVD процессы күбесенчә югары басым (түбән вакуум) мохитендә алып барыла, югары басым фильмның чүпләнү тизлеген арттыру өчен кулланыла. Химик парны чүпләү гомуми CVD (шулай ук җылылык CVD дип тә атала) һәм плазманы көчәйтелгән химик пар парламенты (Плазма-көчәйтелгән химик пар парламенты. PECVD) категориясенә бүленергә мөмкин, плазма чүпләү процессында катнашамы. Бу бүлектә PECVD технологиясе, PECVD процессы һәм гадәттә кулланыла торган PECVD җиһазлары һәм эш принцибы тупланган.
Плазманы көчәйткән химик парны чүпләү - нечкә фильмлы химик парны чүпләү техникасы, түбән басымлы химик парны чүпләү процессы барган вакытта, балкып тору плазмасын куллана. Бу җәһәттән, гадәти CVD технологиясе газ фазасы матдәләре һәм нечкә пленкалар арасында химик реакцияне тормышка ашыру өчен, югары субстрат температураларга таяна, һәм шулай итеп җылылык CVD технологиясе дип аталырга мөмкин.
PECVD җайланмасында эшче газ басымы якынча 5 ~ 500 Па, һәм электроннар һәм ионнар тыгызлыгы 109 ~ 1012 / см3, ә электроннарның уртача энергиясе 1 ~ 10 eV җитә ала. PECVD ысулын башка CVD ысулларыннан аера торган нәрсә - плазмада химик парларны чүпләү процессы өчен кирәк булган активлаштыру энергиясен тәэмин итә алырлык күп энергияле электроннар бар. Электроннар һәм газ фазалы молекулаларның бәрелеше газ молекулаларының таркалуына, химосинтезына, дулкынлануына һәм ионлаштыру процессларына ярдәм итә ала, бик реактив химик төркемнәр барлыкка китерә, шулай итеп CVD нечкә пленка температурасы диапазонын сизелерлек киметә, CVD процессын тормышка ашырырга мөмкинлек бирә, ул башта югары температурада, түбән температурада үткәрелергә тиеш. Түбән температуралы нечкә пленка чүплегенең өстенлеге шунда ки, ул фильм белән субстрат арасында кирәксез диффузиядән һәм химик реакциядән, структур үзгәрешләр һәм фильм яки субстрат материалның начарлануы, кино һәм субстраттагы зур җылылык стрессларыннан саклый ала.
IsБу мәкалә бастырылганвакуум каплау машинасы җитештерүчеГуандун Чжэнхуа
Пост вакыты: 18-2024 апрель