O a mea e aʻafia ai le faʻaleagaina o le sini i le magnetron sputtering?

1, Fausiaina o mea uamea i luga o le fogaeleele o loʻo faʻatatau i ai
O fea o iai le vailaʻau ua fausia i le faagasologa o le fausiaina o se vailaʻau mai se fogāeleele uʻamea e ala i se faiga o le reactive sputtering? Talu ai o le tali atu faʻakemikolo i le va o vaega o le kesi reactive ma atomu o le fogāeleele e maua ai atomu faʻaputu, lea e masani ona exothermic, e tatau ona iai se auala e tafe atu ai le vevela o le tali atu, a leai e le mafai ona faʻaauau le tali atu faʻakemikolo. I lalo o tulaga o le vacuum, e le mafai ona fesiitaʻi le vevela i le va o kesi, o lea e tatau ai ona faia le tali atu faʻakemikolo i luga o se fogāeleele malo. O le reaction sputtering e maua ai vailaʻau i luga o fogāeleele faʻamoemoe, fogāeleele substrate, ma isi fogāeleele fausaga. O le faʻatupuina o vailaʻau i luga o le fogāeleele substrate o le sini lea, o le faʻatupuina o vailaʻau i luga o isi fogāeleele fausaga o se faʻaumatia o punaoa, ma o le faʻatupuina o vailaʻau i luga o le fogāeleele faʻamoemoe e amata mai o se puna o atomu faʻaputu ma avea ma pa puipui i le faʻaauau pea ona tuʻuina atu o nisi atomu faʻaputu.

2, O a'afiaga o le fa'a'ona i le sini
O le mea autū e aʻafia ai le faʻaʻona o le sini o le fua faʻatatau o le kesi tali ma le kesi sputtering, o le tele naua o le kesi tali o le a iʻu ai i le faʻaʻona o le sini. O le faiga o le sputtering tali e faia i le vaega o le auala sputtering o le sini e foliga mai ua ufiufiina e le vailaʻau tali pe ua aveese le vailaʻau tali ma toe faʻaalia le luga uʻamea. Afai e sili atu le saoasaoa o le gaosiga o le vailaʻau nai lo le saoasaoa o le aveeseina o le vailaʻau, e faʻateleina le vaega e ufiufi ai le vailaʻau. I se malosiaga patino, e faʻateleina le aofaʻi o le kesi tali e aʻafia i le gaosiga o le vailaʻau ma faʻateleina le saoasaoa o le gaosiga o le vailaʻau. Afai e faʻateleina tele le aofaʻi o le kesi tali, e faʻateleina le vaega e ufiufi ai le vailaʻau. Ma afai e le mafai ona fetuʻunaʻi le saoasaoa o le tafe o le kesi tali i le taimi, e le taofia le saoasaoa o le faʻateleina o le vaega e ufiufi ai le vailaʻau, ma o le auala sputtering o le a ufiufi atili e le vailaʻau, pe a ufiufi atoa le sini sputtering e le vailaʻau, ua faʻaʻona atoa le sini.

3, O le mea e tupu i le fa'a'ona o le sini
(1) fa'aputuga o ion lelei: pe a o'o i le fa'a'ona o le sini, o le a fausia se vaega o le ata tifaga fa'amama i luga o le sini, o ion lelei e o'o atu i le pito i luga o le sini cathode ona o le poloka o le vaega fa'amama. E le ulufale sa'o i le pito i luga o le sini cathode, ae fa'aputu i luga o le pito i luga o le sini, e faigofie ona gaosia le fanua malulu e fa'amama ai le arc - arcing, ina ia le mafai ai ona fa'aauau le cathode sputtering.
(2) mou atu o le anode: pe a oʻo i le faʻaʻona o le sini, ua faʻapipiʻiina foʻi le ata tifaga faʻaʻeseʻese i le puipui o le potu gaogao, ma oʻo atu i le anode electrons e le mafai ona ulufale i le anode, ma oʻo atu ai i le anode electrons, ma faʻatupuina ai le anode mou atu.

4, Fa'amatalaga fa'aletino o le fa'a'ona i le sini
(1) I se tulaga lautele, o le fua fa'atatau o le fa'asalalauina o le eletise lona lua o mea u'amea e maualuga atu nai lo o metala. A mae'a ona fa'aleagaina le sini, o le fogāeleele o le sini o mea uma ia o mea u'amea, ma a mae'a ona fa'a'olo'olo e ions, o le aofa'i o eletise lona lua e fa'asa'olotoina e fa'ateleina, lea e fa'aleleia atili ai le fa'a'ave'aveina o le avanoa ma fa'aitiitia ai le plasma impedance, ma mafua ai ona maualalo le sputtering voltage. O lenei mea e fa'aitiitia ai le fua fa'atatau o le sputtering. I se tulaga lautele, o le sputtering voltage o le magnetron sputtering e i le va o le 400V-600V, ma a tupu le fa'aleagaina o le sini, e matua fa'aitiitia lava le sputtering voltage.
(2) E eseese le fua faatatau o le sputtering o le uʻamea ma le compound target i le amataga, i se tulaga lautele, e maualuga atu le sputtering coefficient o le uʻamea nai lo le sputtering coefficient o le compound, o lea e maualalo ai le sputtering rate pe a uma ona faʻaʻona le target.
(3) O le lelei o le sputtering o le reactive sputtering gas e maualalo ifo nai lo le lelei o le sputtering o le inert gas, o lea e faʻaitiitia ai le fua faatatau o le sputtering atoatoa pe a faʻateleina le vaega o le reactive gas.

5, Fofo mo le fa'a'ona i le fa'amoemoega
(1) Fa'aaoga le sapalai eletise feololo po'o le sapalai eletise leitio.
(2) Fa'aaoga le pulea fa'a-ta'amilosaga tapuni o le tafe mai o le kesi tali.
(3) Fa'aaoga ni masaga fa'ata'ita'i
(4) Pulea le suiga o le faiga o le ufiufi: A'o le'i ufiufiina, e aoina le pi'o o le hysteresis effect o le fa'a'ona o le sini ina ia pulea le tafe o le ea e ulufale mai i luma o le fa'a'ona o le sini ina ia mautinoa o lo'o iai pea le faiga i le faiga a'o le'i pa'ū tele le fua faatatau o le fa'aputuga.

–O lenei tusiga ua lomia e le Guangdong Zhenhua Technology, o se kamupani gaosi oloa e faia ai masini e ufiufi ai le masini e aunoa ma le ea.