Faʻafeiloaʻi i Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
tasi_fa'ailoga

Fa'aeleelea Fa'a'ele'ele Vapor Deposition Vaega 1

Punavai tala:Zhenhua vacuum
Faitau:10
Lolomiina:24-04-18

Fa'afitia Ausa Fa'ama'i (CVD). E pei ona ta'u mai e le igoa, ose metotia e fa'aogaina ai mea fa'aoso kasa e fa'atupu ai ata mautu e ala i le fa'aosoina o vaila'au fa'aatomika ma intermolecular. E le pei o le PVD, o le faagasologa o le CVD e tele lava ina faia i se siosiomaga maualuga (maualalo vacuum), faatasi ai ma le maualuga maualuga o loʻo faʻaaogaina muamua e faʻateleina ai le faʻaogaina o le ata. E mafai ona fa'avasegaina ausa vaila'au i le CVD lautele (lea e ta'ua o le CVD vevela) ma le fa'aputuina o ausa vaila'au e fa'aleleia e le plasma (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. PECVD) e tusa ai pe o lo'o a'afia le plasma i le fa'agasologa o le fa'aputuina. O lenei vaega o loʻo taulaʻi ile PECVD tekonolosi e aofia ai le PECVD faʻagasologa ma masani ona faʻaogaina meafaigaluega PECVD ma galuega faʻavae.

O le tu'uina atu o ausa vaila'au e fa'aleleia i le Plasma ose faiga fa'ameamea manifinifi-ti'oti e fa'aogaina ai le plasma mumu e fa'aolaina ai le fa'agasologa o le tu'uina a'o fa'agasolo le fa'agasologa o le fa'apa'iaina o ausa vaila'au maualalo. I lenei tulaga, o tekinolosi CVD masani e faʻalagolago i le maualuga o le vevela o le substrate e iloa ai le faʻaogaina o vailaʻau i le va o vailaʻau o le kesi ma le faʻapipiʻiina o ata manifinifi, ma e mafai ona taʻua o tekonolosi CVD vevela.

I totonu o le masini PECVD, o le mamafa o le kasa galue e tusa ma le 5 ~ 500 Pa, ma o le mamafa o electrons ma ions e mafai ona oʻo atu i le 109 ~ 1012 / cm3, ae o le averesi o le malosi o le eletise e mafai ona oʻo atu i le 1 ~ 10 eV. O le a le eseesega o le PECVD auala mai isi auala CVD o le plasma o loʻo i ai se numera tele o eletise eletise maualuga, lea e mafai ona tuʻuina atu le malosi faʻamalosia e manaʻomia mo le faʻagasologa o le faʻaogaina o vailaʻau. O le fetoʻai o electrons ma kasa-vaega molelaula e mafai ona faalauiloaina le decomposition, chemosynthesis, excitation ma ionization faagasologa o mole kesi, gaosia vaega kemisi maualuga reactive, o lea e matua faaitiitia ai le maualuga o le vevela o le CVD thin film deposition, e mafai ai ona iloa le faagasologa o le CVD, lea e manaʻomia muamua e faia i le vevela maualuga, i le maualalo o le vevela. O le lelei o le maualalo o le vevela o le teuina o ata manifinifi o le mafai lea ona aloese mai le faʻasalalau le manaʻomia ma le faʻamaʻiina o vailaʻau i le va o le ata ma le substrate, suiga o le fausaga ma le faʻaleagaina o le ata poʻo le mea faʻapipiʻi, ma le mamafa tele o le vevela i le ata ma le substrate.

–O lenei tusiga ua tatalaina emasini fa'apipi'i gaogao gaosimeaGuangdong Zhenhua


Taimi meli: Apr-18-2024