පටල පරමාණු තැන්පත් වීම ආරම්භ වූ විට, අයන බෝම්බ හෙලීම පටල/උපස්ථර අතුරුමුහුණතට පහත බලපෑම් ඇති කරයි.
(1) භෞතික මිශ්රණය. අධි ශක්ති අයන එන්නත් කිරීම, තැන්පත් කරන ලද පරමාණු ඉසීම සහ මතුපිට පරමාණු නැවත ලබා ගැනීම සහ කඳුරැල්ල ගැටීමේ සංසිද්ධිය හේතුවෙන්, විසරණය නොවන මිශ්රණයේ උපස්ථර මූලද්රව්ය සහ පටල මූලද්රව්යවල පටල/පාදක අතුරුමුහුණතේ ආසන්න මතුපිට ප්රදේශය ඇති වේ, මෙම මිශ්ර කිරීමේ බලපෑම පටල/පාදක අතුරුමුහුණත “ව්යාජ-විසරණ ස්ථරය” සෑදීමට හිතකර වනු ඇත, එනම් පටල/පාදක අතුරුමුහුණත අතර සංක්රාන්ති ස්ථරය, මයික්රෝන කිහිපයක් දක්වා ඝනකම. මයික්රෝමීටර කිහිපයක් ඝනකම, නව අවධීන් පවා දිස්විය හැකිය. පටල / පාදක අතුරුමුහුණතේ ඇලවුම් ශක්තිය වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා මෙය ඉතා හිතකර වේ.
(2) වැඩි දියුණු කළ විසරණය. මතුපිටට ආසන්න කලාපයේ ඉහළ දෝෂ සාන්ද්රණය සහ ඉහළ උෂ්ණත්වය විසරණ අනුපාතය වැඩි කරයි. මතුපිට ලක්ෂ්ය දෝෂයක් බැවින්, කුඩා අයන මතුපිට අපගමනය කිරීමේ ප්රවණතාවක් ඇති අතර, අයන බෝම්බ හෙලීම මතුපිට අපගමනය තවදුරටත් වැඩි දියුණු කිරීමේ සහ තැන්පත් කළ සහ උපස්ථර පරමාණුවල අන්යෝන්ය විසරණය වැඩි දියුණු කිරීමේ බලපෑමක් ඇති කරයි.
(3) වැඩිදියුණු කළ න්යෂ්ටිකකරණ මාදිලිය. උපස්ථර මතුපිට ඝනීභවනය වූ පරමාණුවේ ගුණාංග තීරණය වන්නේ එහි මතුපිට අන්තර්ක්රියාව සහ මතුපිට එහි සංක්රමණ ගුණාංග මගිනි. ඝනීභවනය වූ පරමාණුව සහ උපස්ථරයේ මතුපිට අතර ශක්තිමත් අන්තර්ක්රියාවක් නොමැති නම්, පරමාණුව ඉහළ ශක්ති ස්ථානයක න්යෂ්ටික වන තෙක් හෝ අනෙකුත් විසරණ පරමාණු සමඟ ගැටෙන තෙක් මතුපිට විසරණය වේ. මෙම න්යෂ්ටිකකරණ මාදිලිය ප්රතික්රියාශීලී නොවන න්යෂ්ටිකකරණය ලෙස හැඳින්වේ. මුල් පිටපත ප්රතික්රියාශීලී නොවන න්යෂ්ටිකකරණ මාදිලියට අයත් වුවද, උපස්ථර මතුපිට අයන බෝම්බ හෙලීමෙන් වැඩි දෝෂ ඇති විය හැකි අතර, න්යෂ්ටිකකරණ ඝනත්වය වැඩි කරයි, එය විසරණය - ප්රතික්රියාශීලී න්යෂ්ටිකකරණ මාදිලිය සෑදීමට වඩාත් හිතකර වේ.
(4) ලිහිල්ව බැඳී ඇති පරමාණු වරණීයව ඉවත් කිරීම. මතුපිට පරමාණු ඉසීම තීරණය වන්නේ දේශීය බන්ධන තත්ත්වය අනුව වන අතර, මතුපිට අයන බෝම්බ හෙලීම ලිහිල්ව බැඳී ඇති පරමාණු ඉසීමට වැඩි ඉඩක් ඇත. විසරණ-ප්රතික්රියාශීලී අතුරුමුහුණත් සෑදීමේදී මෙම බලපෑම වඩාත් කැපී පෙනේ.
(5) මතුපිට ආවරණය වැඩිදියුණු කිරීම සහ ආලේපන බයිපාස් වැඩිදියුණු කිරීම. අයන ආලේපනයේ ඉහළ ක්රියාකාරී වායු පීඩනය හේතුවෙන්, වාෂ්පීකරණය වූ හෝ ඉසින ලද පරමාණු විසිරීම වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා වායු පරමාණු සමඟ ගැටීමට ලක් වන අතර එමඟින් හොඳ ආලේපන එතුම් ගුණාංග ඇති වේ.
–මෙම ලිපිය ප්රකාශයට පත් කර ඇත්තේරික්ත ආලේපන යන්ත්ර නිෂ්පාදකයාGuangdong Zhenhua
පළ කිරීමේ කාලය: දෙසැම්බර්-09-2023