1. Скорость испарения повлияет на свойства напыляемого покрытия.
Скорость испарения оказывает большое влияние на осажденную пленку. Поскольку структура покрытия, образованная при низкой скорости осаждения, является рыхлой и легко производит осаждение крупных частиц, очень безопасно выбирать более высокую скорость испарения, чтобы обеспечить компактность структуры покрытия. Когда давление остаточного газа в вакуумной камере постоянно, скорость бомбардировки подложки является постоянной величиной. Поэтому остаточный газ, содержащийся в осажденной пленке после выбора более высокой скорости осаждения, будет уменьшен, тем самым уменьшая химическую реакцию между молекулами остаточного газа и испаренными частицами пленки. Таким образом, чистота осажденной пленки может быть улучшена. Следует отметить, что если скорость осаждения слишком высокая, это может увеличить внутреннее напряжение пленки, это увеличит дефекты в пленке и даже приведет к разрыву пленки. В частности, в процессе реактивного испарения, для того чтобы заставить реакционный газ полностью прореагировать с частицами материала испаряемой пленки, вы можете выбрать более низкую скорость осаждения. Конечно, разные материалы выбирают разные скорости испарения. В качестве практического примера – осаждение отражающей пленки. Если толщина пленки составляет 600×10-8 см, а время испарения составляет 3 с, отражательная способность составляет 93%. Однако, если скорость испарения замедлить при тех же условиях толщины, потребуется 10 минут, чтобы завершить осаждение пленки. В это время толщина пленки та же самая. Однако отражательная способность упала до 68%.
2. Температура подложки будет влиять на испарение покрытия.
Температура подложки оказывает большое влияние на напыляемое покрытие. Остаточные молекулы газа, адсорбированные на поверхности подложки при высокой температуре подложки, легко удаляются. Особенно важно удаление молекул водяного пара. Более того, при более высоких температурах не только легко способствовать переходу от физической адсорбции к химической адсорбции, тем самым увеличивая силу связи между частицами. Более того, это также может уменьшить разницу между температурой рекристаллизации молекул пара и температурой подложки, тем самым уменьшая или устраняя внутреннее напряжение на интерфейсе на основе пленки. Кроме того, поскольку температура подложки связана с кристаллическим состоянием пленки, часто легко образовывать аморфные или микрокристаллические покрытия в условиях низкой температуры подложки или отсутствия нагрева. Напротив, при высокой температуре легко образовывать кристаллическое покрытие. Повышение температуры подложки также способствует улучшению механических свойств покрытия. Конечно, температура подложки не должна быть слишком высокой, чтобы предотвратить испарение покрытия.
3. Остаточное давление газа в вакуумной камере повлияет на свойства пленки.
Давление остаточного газа в вакуумной камере оказывает большое влияние на производительность мембраны. Молекулы остаточного газа со слишком высоким давлением не только легко сталкиваются с испаряющимися частицами, что снижает кинетическую энергию людей на подложке и влияет на адгезию пленки. Кроме того, слишком высокое давление остаточного газа серьезно влияет на чистоту пленки и снижает производительность покрытия.
4. Влияние температуры испарения на испаряемость покрытия
Влияние температуры испарения на производительность мембраны показано изменением скорости испарения с температурой. Когда температура испарения высокая, теплота испарения будет уменьшаться. Если материал мембраны испаряется выше температуры испарения, даже небольшое изменение температуры может вызвать резкое изменение скорости испарения материала мембраны. Поэтому очень важно точно контролировать температуру испарения во время осаждения пленки, чтобы избежать большого градиента температуры при нагревании источника испарения. Для материала пленки, который легко сублимируется, также очень важно выбрать сам материал в качестве нагревателя для испарения и других мер.
5. Состояние очистки подложки и камеры нанесения покрытия влияет на производительность покрытия.
Влияние чистоты подложки и камеры нанесения покрытия на производительность покрытия нельзя игнорировать. Это не только серьезно повлияет на чистоту нанесенной пленки, но и снизит адгезию пленки. Поэтому очистка подложки, чистящая обработка вакуумной камеры нанесения покрытия и ее связанных компонентов (например, каркаса подложки) и дегазация поверхности являются незаменимыми процессами в процессе вакуумного нанесения покрытия.
Время публикации: 28 февр. 2023 г.