Istnieją dwa główne tryby osadzania wspomaganego wiązką jonów, jeden jest dynamiczny hybrydowy; drugi jest statyczny hybrydowy. Pierwszy odnosi się do filmu w procesie wzrostu zawsze towarzyszy mu pewna energia i prąd wiązki bombardowania jonami i filmu; drugi jest wstępnie osadzony na powierzchni podłoża warstwa o grubości mniejszej niż kilka nanometrów warstwy filmu, a następnie dynamiczne bombardowanie jonami i może być powtarzane wiele razy i wzrost warstwy filmu.
Wybrane energie wiązki jonów do osadzania cienkich warstw wspomaganego wiązką jonów mieszczą się w zakresie od 30 eV do 100 keV. Wybrany zakres energii zależy od rodzaju zastosowania, dla którego syntetyzuje się warstwę. Na przykład, przygotowanie ochrony antykorozyjnej, ochrony przed zużyciem mechanicznym, powłok dekoracyjnych i innych cienkich warstw powinno być wybrane przy wyższej energii bombardowania. Eksperymenty pokazują, że, takie jak wybór energii bombardowania wiązką jonów od 20 do 40 keV, materiał podłoża i sama warstwa nie będą miały wpływu na wydajność i wykorzystanie uszkodzeń. Podczas przygotowywania cienkich warstw do urządzeń optycznych i elektronicznych, należy wybrać osadzanie wspomagane wiązką jonów o niższej energii, co nie tylko zmniejsza adsorpcję światła i zapobiega tworzeniu się defektów aktywowanych elektrycznie, ale także ułatwia tworzenie stacjonarnej struktury membrany. Badania wykazały, że warstwy o doskonałych właściwościach można uzyskać, wybierając energie jonów niższe niż 500 eV.
– Artykuł ten został opublikowany przezproducent maszyn do powlekania próżniowegoGuangdong Zhenhua
Czas publikacji: 11-03-2024