1. De verdampingssnelheid heeft invloed op de eigenschappen van de verdampte coating
De verdampingssnelheid heeft een grote invloed op de afgezette film. Omdat de coatingstructuur die gevormd wordt door een lage afzettingssnelheid los is en gemakkelijk grote deeltjes kan afzetten, is het zeer veilig om een hogere verdampingssnelheid te kiezen om de compactheid van de coatingstructuur te garanderen. Wanneer de druk van het restgas in de vacuümkamer constant is, is de bombardementssnelheid van het substraat een constante waarde. Daarom zal het restgas in de afgezette film na het selecteren van een hogere afzettingssnelheid worden verlaagd, waardoor de chemische reactie tussen de restgasmoleculen en de verdampte filmdeeltjes wordt verminderd. Dit kan de zuiverheid van de afgezette film verbeteren. Opgemerkt moet worden dat een te hoge afzettingssnelheid de interne spanning in de film kan verhogen, het aantal defecten in de film kan toenemen en zelfs kan leiden tot breuk van de film. Met name bij reactief verdampen kunt u een lagere afzettingssnelheid kiezen om het reactiegas volledig te laten reageren met de deeltjes van het verdampingsfilmmateriaal. Verschillende materialen hebben uiteraard verschillende verdampingssnelheden. Een praktisch voorbeeld: de afzetting van reflecterende folie. Als de foliedikte 600 × 10-8 cm is en de verdampingstijd 3 seconden, bedraagt de reflectie 93%. Als de verdampingssnelheid echter wordt verlaagd bij een gelijke dikte, duurt het 10 minuten om de folie af te zetten. De foliedikte is dan gelijk. De reflectie is echter gedaald tot 68%.
2. De temperatuur van het substraat heeft invloed op de verdampingscoating
De substraattemperatuur heeft een grote invloed op de verdampingslaag. De resterende gasmoleculen die bij een hoge substraattemperatuur op het substraatoppervlak worden geadsorbeerd, zijn gemakkelijk te verwijderen. Vooral de verwijdering van waterdampmoleculen is belangrijker. Bovendien is het bij hogere temperaturen niet alleen gemakkelijk om de overgang van fysische adsorptie naar chemische adsorptie te bevorderen, waardoor de bindingskracht tussen deeltjes toeneemt. Bovendien kan het ook het verschil tussen de herkristallisatietemperatuur van dampmoleculen en de substraattemperatuur verkleinen, waardoor de interne spanning op de filminterface wordt verminderd of geëlimineerd. Omdat de substraattemperatuur gerelateerd is aan de kristallijne toestand van de film, is het bovendien vaak gemakkelijk om amorfe of microkristallijne coatings te vormen bij een lage substraattemperatuur of zonder verwarming. Bij een hoge temperatuur daarentegen is het gemakkelijk om een kristallijne coating te vormen. Het verhogen van de substraattemperatuur bevordert ook de verbetering van de mechanische eigenschappen van de coating. Uiteraard mag de substraattemperatuur niet te hoog zijn om verdamping van de coating te voorkomen.
3. De resterende gasdruk in de vacuümkamer heeft invloed op de eigenschappen van de film
De druk van het restgas in de vacuümkamer heeft een grote invloed op de prestaties van het membraan. De restgasmoleculen met een te hoge druk botsen niet alleen gemakkelijk met de verdampende deeltjes, wat de kinetische energie van de mensen op het substraat vermindert en de hechting van de film beïnvloedt. Bovendien zal een te hoge restgasdruk de zuiverheid van de film ernstig aantasten en de prestaties van de coating verminderen.
4. Effect van de verdampingstemperatuur op de verdampingscoating
Het effect van de verdampingstemperatuur op de prestaties van het membraan wordt aangetoond door de verandering van de verdampingssnelheid met de temperatuur. Bij een hoge verdampingstemperatuur neemt de verdampingswarmte af. Als het membraanmateriaal boven de verdampingstemperatuur verdampt, kan zelfs een kleine temperatuurverandering een sterke verandering in de verdampingssnelheid van het membraanmateriaal veroorzaken. Daarom is het zeer belangrijk om de verdampingstemperatuur nauwkeurig te regelen tijdens het afzetten van de film om grote temperatuurverschillen te voorkomen wanneer de verdampingsbron wordt verhit. Voor filmmateriaal dat gemakkelijk te sublimeren is, is het ook zeer belangrijk om het materiaal zelf te selecteren als verwarmer voor verdamping en andere maatregelen.
5. De reinigingstoestand van het substraat en de coatingkamer heeft invloed op de coatingprestaties
De invloed van de reinheid van het substraat en de coatingkamer op de coatingprestaties mag niet worden genegeerd. Dit heeft niet alleen een ernstige invloed op de zuiverheid van de aangebrachte film, maar vermindert ook de hechting van de film. Daarom zijn de zuivering van het substraat, de reinigingsbehandeling van de vacuümcoatkamer en de bijbehorende componenten (zoals het substraatframe) en het ontgassen van het oppervlak allemaal onmisbare processen in het vacuümcoatingproces.
Geplaatst op: 28-02-2023